[发明专利]一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法

权利要求书

1.一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法，该镀膜方法依次包括喷涂UV底漆、镀制高金属质感不导电膜层和喷涂UV面漆三个步骤，其特征在于：所述镀制高金属质感不导电膜层是以硅铝合金为靶材料，采用磁控溅射镀膜技术，对待镀膜产品进行镀膜。

2.根据权利要求1所述一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法，其特征在于：所述硅铝合金的规格为长×宽×厚= 1009 mm×124.7 mm×8mm。

3.根据权利要求1所述一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法，其特征在于：所述磁控溅射镀膜技术的各参数为：

真空溅射室中真空压力抽到0.003Pa～0.005pa后，冲入氩气为工作气体，冲入氩气后的真空恒压为0.4pa～0.6pa；

流量计流量为150sccm～170sccm；

溅射电源为中频电源；

镀膜溅射功率为0.5KW～1.5KW；

偏压调制为350V～400 V；

基板载体工件架的移动线速为4HZ～6HZ。

4.根据权利要求1～3所述任一项的一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法，其特征在于：该镀膜方法具体包括如下步骤：

步骤1  喷涂UV底漆

在温度10℃～35℃、湿度 30%～80%的环境下，将待镀膜的产品放到一号涂装机的自动线上，进行前处理擦试及自动化静电除尘；调整喷枪气压2 kg/cm²～3.5kg/cm²，把UV底漆自动化喷涂到产品待镀膜的面上，喷涂UV底漆的膜厚16 um～20um；然后将完成喷涂的产品放入烤箱烘烤，烘烤温度40℃～50℃，烘烤时间5 min～8min；最后将完成烘烤的产品过UV炉进行固化；

步骤2  硅铝合金靶材磁控溅射镀膜

本步骤所用的磁控溅射连续镀膜机上装有硅铝合金靶2个，硅铝合金靶的规格为长×宽×厚= 1009 mm×124.7 mm×8mm；

在温度为17℃～27℃、湿度为45%～85%的条件下，在磁控溅射连续镀膜机中，采用磁控溅射连续镀膜技术对经过步骤1处理后的产品进行全自动溅射镀膜，该全自动溅射镀膜的参数如下：

真空溅射室中真空压力抽到0.003Pa～0.005pa后，冲入氩气为工作气体，冲入氩气后的真空恒压为0.4pa～0.6pa；

流量计流量为150sccm～170sccm；

溅射电源为中频电源；

镀膜溅射功率为0.5KW～1.5KW；

偏压调制为350V～400 V；

基板载体工件架的移动线速为4HZ～6HZ；

步骤3   喷涂UV面漆

在温度5℃～35℃、湿度30%～80%的环境下，将步骤2处理后的产品放到二号涂装机的自动线上，用静电除尘枪进行手动除尘，再用离子静电除尘枪进行自动静电除尘；调整喷枪气压1.5 kg/cm²～3.5kg/cm², 把UV面漆喷涂到产品镀膜的面上，膜厚为10um～14um；然后将完成喷涂的产品放入烤箱烘烤，烤箱温度为70℃～80℃，烘烤时间为5 min～8min；最后将烘烤完成的产品过UV炉进行固化，完成不连续高金属质感膜层的镀膜。

5.根据权利要求4所述一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法，其特征在于：所述步骤1中，一号涂装机的线速为18 Hz～22Hz；UV底漆采用粘度为7.8 s～10s 的UV底漆；UV炉包括4盏UV灯，其中3盏开启强光，1盏开启中光， UV能量为800 mj/cm²～1000mj/cm²。

6.根据权利要求4所述一种不连续高金属质感膜层的镀膜方法，其特征在于：所述步骤3中，二号涂装机的线速为16 Hz～20Hz；UV面漆采用粘度为7.8 s～8.2 s的UV面漆；UV炉包括4盏UV灯，该4盏UV灯开启强光，UV能量为900 mj/cm²～1100mj/cm²。