[发明专利]铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺有效

专利信息
申请号: 201110293017.7 申请日: 2011-10-07
公开(公告)号: CN102290339A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 王应民;李清华;徐章程;李禾 申请(专利权)人: 南昌航空大学
主分类号: H01L21/203 分类号: H01L21/203;H01L31/18
代理公司: 南昌洪达专利事务所 36111 代理人: 刘凌峰
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 铜铟镓硒靶材 连续 溅射 制备 cigs 太阳电池 吸收 新工艺
【权利要求书】:

1.铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺,其特征在于:使用不同组成的CIGS靶材来控制并调整CIGS太阳电池吸收层的组成,提高CIGS太阳电池光电转换效率。

2.如专利权利要求书1所述的铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺,其工艺特征在于:1)使用不同组成的CIGS靶材进行连续溅射制备的CIGS吸收层;2)使用共蒸发技术,调整CIGS太阳电池吸收层的组成,得到p+-CuGaSe2和p-Cu(In,Ga)Se2薄膜。

3.如专利权利要求书1,2所述的铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺,该吸收层可以通过改变CIGS靶材的组成进行连续溅射,进行控制CIGS吸收层的组成和性能,得到一系列具有不同性能的CIGS太阳电池吸收层。

4.如专利权利要求书1,2所述的铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺,该吸收层的组成和制备特征在于:1)首先在镀Mo的玻璃或不锈钢基体上,使用磁控溅射方法溅射富Ga的CIGS靶材,得到富Ga相Cu(In,Ga)Se2薄膜;然后使用磁控溅射方法溅射富In的CIGS靶材,得到富In相的Cu(In,Ga)Se2薄膜; 2)在富In相的Cu(In,Ga)Se2薄膜上,继续使用磁控溅射方法溅射(In,Ga)Se或(In,Ga)2Se3靶材,粗调Cu(In,Ga)Se2吸收层的组成;3)最后使用共蒸发技术,同时蒸发In、Se金属,微调Cu(In,Ga)Se2吸收层的组成,得到p+-CuGaSe2和p-Cu(In,Ga)Se2薄膜。

5.如专利权利要求书3,4所述的铜铟镓硒靶材连续溅射制备CIGS太阳电池吸收层的新工艺的制备技术的具体工艺特征在于:在柔性基体(钛薄片、不锈钢薄片、聚酰亚胺等)或者刚性导电玻璃基体上,使用了连续磁控溅射和多元共蒸发技术制备CIGS太阳电池吸收层;具体工艺如下:第一步待溅射室抽真空至1×10-3Pa时,开始加热镀Mo的玻璃或不锈钢基体,通入氩气调节溅射室真空度,使工作气压为1.0-4.0Pa,两极电压为Vd=200-300V,使用Cu(In0.4,Ga0.6)Se2靶材,溅射时间为10-30min,衬底温度为150-250oC,得到富Ga相Cu(In,Ga)Se2薄膜;第二步使用Cu(In0.7,Ga0.3)Se2靶材,在富Ga相Cu(In,Ga)Se2薄膜上继续溅射,溅射时间为10-20min,衬底温度为150-250oC,得到富In相Cu(In,Ga)Se2薄膜;第三步使用(In,Ga)Se或(In,Ga)2Se3靶材,在富In相Cu(In,Ga)Se2薄膜继续溅射(In,Ga)Se薄膜,溅射时间为5-10min,衬底温度为150-250oC,粗调Cu(In,Ga)Se2薄膜的组成;第四步使用多元共蒸发技术,待真空至1×10-5Pa时,同时蒸发In、Se金属,蒸发时间为1-5min,衬底温度为550-600 oC,微调Cu(In,Ga)Se2吸收层的组成,得到p+-CuGaSe2和p-Cu(In,Ga)Se2薄膜。

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