[发明专利]一种量子点敏化太阳电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110294931.3 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102360962A 公开(公告)日: 2012-02-22
发明(设计)人: 朱俊;胡林华;戴松元;余学超 申请(专利权)人: 中国科学院等离子体物理研究所
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;H01G9/04;H01M14/00;H01L31/18
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230031 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 量子 点敏化 太阳电池 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及太阳电池的制备技术领域,确切地说是一种量子点敏化太阳电池 的制备方法。

背景技术

太阳电池是各种清洁能源技术中最有效的技术方案之一,它对于解决人类发 展过程中的能源与环境问题具有重要的意义。近年来涌现出了很多新型太阳电池 技术,无机半导体量子点敏化太阳电池即是其中之一。无机半导体量子点敏化太 阳电池一般采用窄带隙的无机半导体量子点作为光敏化剂,将其沉积在宽禁带氧 化物半导体薄膜电极上,与电解质以及对电极共同组装成电池。

在制备无机半导体量子点敏化太阳电池的步骤中,将无机半导体量子点沉积 到宽禁带氧化物半导体薄膜电极上是至关重要的一个步骤。目前实现该步骤常见 的方法有两类,一类是首先通过水热法、溶剂热法、有机相高温热解法预先合成 半导体量子点,然后直接将其直接吸附或者通过连接分子如巯基丙酸等吸附到宽 禁带氧化物半导体薄膜电极上;另一类是将宽禁带氧化物半导体薄膜电极在组成 半导体量子点的阴阳离子的溶液中浸泡,在浸泡的过程中原位形成量子点。本发 明提出将单质金属或单质砷、金属硫族化合物或三硫化二砷,和单质硫、硒、碲 或它们的铵类盐或肼类盐溶解于水或肼中作为量子点的前驱体溶液,这方面的研 究工作尚未见国内外专利报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种艺简单、成本较低,易于规模化制备的量子点敏化 太阳电池的制备方法。

为实现上述目的本发明采用如下技术方案:

一种量子点敏化太阳电池的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

A、将单质金属或单质砷、金属硫族化合物或三硫化二砷中的任意一种或几 种,和单质硫、硫的铵类盐或肼类盐、单质硒、硒的铵类盐或肼类盐、单质碲、 碲的铵类盐或肼类盐中的任意一种或几种溶解于水或肼中,形成阳离子为NH4+或N2H5+、金属或砷与硫族元素结合形成阴离子的前驱体溶液;

B、将氧化物半导体薄膜电极在步骤A中所得到的前驱体溶液中浸泡或者将 所述的前驱体溶液采用流延、滴涂、旋涂、浸渍提拉、丝网印刷或者喷墨打印的 方法涂覆到氧化物半导体薄膜电极上,得吸附前驱体的氧化物薄膜电极;

C、对步骤B所得吸附前驱体的氧化物薄膜电极进行加热退火处理,得量子 点敏化氧化物电极;

D、将步骤C所得的量子点敏化氧化物电极与电解质以及对电极共同组装成 得到量子点敏化太阳电池。

所述的一种量子点敏化太阳电池的制备方法,其特征在于所述的单质金属指 的是Sn、In、Zn、Cu、Ge、Hg、Ga、Sb、Mo中的任意一种。

所述的一种量子点敏化太阳电池的制备方法,其特征在于所述的金属硫族化 合物指的是SnS2、SnSe2、In2Se3、ZnTe、In2Te3、Cu2S、GeS2、HgSe、Ga2Se3、 Sb2Se3、Sb2Te3、MoS2、CuInSxSe2-x、CuInyGa1-ySe2中的任意一种,其中0≤x≤2, 0≤y≤1。

所述的一种量子点敏化太阳电池的制备方法,其特征在于所述的氧化物半导 体薄膜电极使用的氧化物半导体为选自Ti、Nb、Zn、Sn、Zr、Y、La、Ta、W、 Hf、Sr、In、V、Cr以及Mo的金属氧化物,和SrTiO3、CaTiO3中的一种或几种。

所述的一种量子点敏化太阳电池的制备方法,其特征在于所述的氧化物半导 体薄膜电极的氧化物半导体薄膜的厚度为0.5-50微米。

所述的一种量子点敏化太阳电池的制备方法,其特征在于所述的加热退火处 理中控制温度范围在50-500℃。

本发明的有益效果为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院等离子体物理研究所,未经中国科学院等离子体物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110294931.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top