[发明专利]一种阵列基板及线缺陷维修方法无效
| 申请号： | 201110296289.2 | 申请日： | 2011-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN102654699A | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 张超 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/13;H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 缺陷 维修 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
阵列基板上的基本电路线；
静电释放防护线，所述静电释放防护线用于线缺陷维修；
远端修补线；
引线，所述引线在远端修补线与静电释放防护线之间。
2.根据权利要求1所述阵列基板布线设计，其特征在于，所述静电释放防护线用于制程过程中的静电防护，在制程末期所述静电释放防护线用于线缺陷维修。
3.一种阵列基板的线缺陷维修方法，其特征在于，包括：
在信号线的线缺陷两侧各选择一静电释放防护线，将两条静电释放防护线分别焊接在所述线缺陷的两侧；
通过引线，将每条静电防护线与对应的一条远端修补线连接；所述引线在远端修补线与静电释放防护线之间，所述两条远端修补线是连通的。
4.根据权利要求3所述维修方法，其特征在于，所述静电释放防护线用于制程过程中的静电防护，在制程末期所述静电释放防护线用于线缺陷维修。
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