[发明专利]数字微镜器件及其形成方法

权利要求书

1.一种数字微镜器件，其特征在于，包括：

基底，所述基底上形成有微镜器件控制电路结构；

位于所述基底上的数字微镜阵列，数字微镜阵列中的每一数字微镜包括 一个反光镜、两个第一极板、两个第二极板；

所述两个第二极板位于所述基底上，与所述微镜器件控制电路结构电连 接；

所述两个第一极板位于所述两个第二极板上方，且分别与所述两个第二 极板相对；

所述反光镜位于所述两个第一极板上方，且所述反光镜通过第一插栓与 两个第一极板电连接；

相对设置的两个卡口，所述卡口固定在基底上且与所述微镜器件控制电 路结构电连接，所述反光镜的两相对侧边可活动设置在所述卡口内，在所述 反光镜与所述卡口接触时，所述卡口与所述反光镜电连接；在其中一个第一 极板和对应的第二极板之间具有电压差时，所述反光镜在所述第一极板的带 动下向对应的第二极板方向偏转。

2.如权利要求1所述的数字微镜器件，其特征在于，还包括两个连接端；所 述两个连接端位于两个第二极板之间的基底上；

所述第二极板通过第二插栓与所述微镜器件控制电路结构电连接；

所述连接端通过第三插栓与所述微镜器件控制电路结构电连接，所述卡 口通过第四插栓与所述连接端电连接。

3.如权利要求2所述的数字微镜器件，其特征在于，所述卡口包括底板、顶 板以及侧壁；所述底板与所述第四插栓电连接，所述顶板与所述底板相对， 所述侧壁连接所述底板与所述顶板。

4.如权利要求1～3任一项所述的数字微镜器件，其特征在于，所述第一极板 包括导电层和介质层，所述导电层靠近所述第二极板，所述介质层远离所述 第二极板，所述介质层相对于所述导电层具有压应力。

5.如权利要求1～3任一项所述的数字微镜器件，其特征在于，所述第一极板 包括导电层和介质层，所述导电层远离所述第二极板，所述介质层靠近所述 第二极板，所述介质层相对于所述导电层具有拉应力。

6.如权利要求4所述的数字微镜器件，其特征在于，所述第一极板的介质层 的材料选自氧化硅、碳化硅、氮氧化硅、碳氧化硅其中之一或者他们的任意 组合。

7.如权利要求1～3任一项所述的数字微镜器件，其特征在于，还包括密封盖 阵列，每一个密封盖在所述每一个数字微镜上方遮盖所述数字微镜。

8.如权利要求7所述的数字微镜器件，其特征在于，

所述密封盖包括封盖层、密封层和连接柱；

所述封盖层位于所述数字微镜上方，通过连接柱与所述卡口连接，所述 封盖层具有开口；

所述密封层位于所述封盖层表面，且密封所述开口。

9.如权利要求1～3任一项所述的数字微镜器件，其特征在于，所述微镜器件 控制电路结构为CMOS控制电路结构。

10.一种形成权利要求3所述的数字微镜器件的方法，其特征在于，包括：

提供基底，所述基底上形成有微镜器件控制电路结构；

在所述基底上形成第二极板、连接端以及第二极板、连接端与所述微镜 器件控制电路结构连接的第二插栓和第三插栓；

形成第一牺牲层，覆盖所述第二极板和基底形成的表面，在所述第一牺 牲层的表面形成第一极板；

形成第二牺牲层，覆盖所述第一极板和所述第一牺牲层，在所述第二牺 牲层和第一牺牲层中形成第四插栓，在所述第四插栓上形成所述卡口的底板；

形成第三牺牲层，覆盖所述第二牺牲层、所述卡口的底板，在所述第三 牺牲层和第二牺牲层中形成第一插栓，在所述第三牺牲层的表面形成反光镜；

形成第四牺牲层，覆盖所述第三牺牲层和所述反光镜，在所述第四牺牲 层和第三牺牲层中形成卡口的侧壁、第四牺牲层的表面形成卡口的顶板；

去除第四牺牲层、第三牺牲层、第二牺牲层以及第一牺牲层。