[发明专利]高压氮化物LED器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110298596.4 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102354699A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 肖德元;于洪波;于婷婷;程蒙召;张汝京 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/02;H01L33/36;H01L33/00;H01L33/48;H01L33/62
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201306 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 高压 氮化物 led 器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种高压氮化物LED器件的制造方法,包括如下步骤:

提供一衬底,所述衬底上依次形成有N型氮化物成核层和外延层;

蚀刻所述外延层形成N型接触电极台阶;

依次蚀刻所述N型氮化物成核层,形成LED隔离沟槽,所述LED隔离沟槽暴露出所述衬底的表面;

在所述N型接触电极台阶上制作N型接触电极,在所述外延层上制作P型接触电极,形成多个LED单元芯片;

对所述多个LED单元芯片进行光电性能测试,并根据所述测试结果选择性的对所述多个LED单元芯片进行激光划片,以将多个LED单元芯片分组切割成至少一个LED模块;

对所述LED模块进行封装,所述LED模块中的各LED单元芯片通过引线进行串联和/或并联,形成高压氮化物LED器件。

2.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:在所述衬底上形成N型氮化物成核层之前,还包括:在所述衬底上形成氮化物缓冲层。

3.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:所述外延层包括依次形成于所述N型氮化物成核层上的多量子阱有源层、P型氮化物层和P型限制层。

4.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:形成所述外延层之后,在所述外延层上沉积透明导电层,蚀刻所述外延层之前先蚀刻所述透明导电层。

5.根据权利要4所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:所述P型接触电极位于所述透明导电层之上。

6.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:所述N型接触电极和P型接触电极的材质为镍金合金。

7.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:对所述多个LED单元芯片进行光电性能测试之前,还包括:减薄所述衬底。

8.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:对所述LED模块进行板上晶片直装。

9.根据权利要求1所述高压氮化物LED器件的制造方法,其特征在于:形成高压氮化物LED器件之后,还包括:在所述高压氮化物LED器件上涂覆荧光粉硅胶。

10.一种利用权利要求1所述的高压氮化物LED器件的制造方法形成的高压氮化物LED器件,包括:

至少一个高压LED模块,每个高压LED模块包括至少两个LED单元芯片,其中,每个LED单元芯片具有N型接触电极和P型接触电极,各LED单元芯片通过N型接触电极和P型接触电极进行串联和/或并联;以及

一基板,所述基板表面设置有基板电极,所述基板电极与所述高压LED模块通过引线键合。

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