[发明专利]一种等离子体预清洗装置有效
| 申请号： | 201110299536.4 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN103014745A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 吕铀 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23G5/04 | 分类号： | C23G5/04 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;陈源 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 清洗 装置 | ||
1.一种等离子体预清洗装置，包括线圈、法拉第屏蔽件、介质桶、设置在所述介质桶顶端的顶盖以及与所述介质桶底端相连的腔体，所述法拉第屏蔽件套在所述介质桶的外侧，所述线圈缠绕在所述法拉第屏蔽件的外侧，其特征在于，所述法拉第屏蔽件包括沿所述介质桶周缘方向排列的至少两个相互不接触的法拉第屏蔽单元。
2.根据权利要求1所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，在所述法拉第屏蔽单元上设有沿所述法拉第屏蔽件轴向方向的槽部。
3.根据权利要求2所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述槽部在所述法拉第屏蔽件的周缘方向上的宽度为3～10mm。
4.根据权利要求1所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述法拉第屏蔽单元在所述法拉第屏蔽件的径向方向的厚度为3～10mm。
5.根据权利要求1所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，在所述介质桶周缘方向上，相邻两个所述法拉第屏蔽单元之间的距离为3～10mm。
6.根据权利要求1所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述法拉第屏蔽单元采用导电材料制成。
7.根据权利要求1所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述法拉第屏蔽件与直流电源连接。
8.根据权利要求7所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述法拉第屏蔽件与直流电源之间连接有低通滤波器。
9.根据权利要求1所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述介质桶顶端与所述顶盖之间设置有转接法兰，在所述转接法兰内部设有用于冷却所述介质桶的冷却通道，所述冷却通道与冷却介质源连通。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的等离子体预清洗装置，其特征在于，所述介质桶采用陶瓷或石英制成。
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