[发明专利]一种旋光片

说明书

技术领域

本发明涉及一种低反射率的旋光片，特别是关于一种作为法拉第偏 频组件的旋光片。

背景技术

法拉第偏频组件作为四频激光陀螺的核心器件，其由旋光片和永磁 体组成，其中所述旋光片设置在筒状的永磁体中间。实际使用时，整个 法拉第偏频组件垂直插在四频激光陀螺的谐振腔光路上，使得谐振腔内 的激光垂直穿过旋光片。为了减少激光穿过旋光片所产生的损耗，提高 四频激光陀螺的工作精度，要求法拉第偏频组件的透射损耗趋于零，为 此旋光片需要具有极低的反射率。

四频激光陀螺的法拉第偏频组件在国内研究较少，国外由于技术封 锁，也缺乏公开资料。因此，为了设计高性能的四频激光陀螺，有必要 研制具有反射率极低的旋光片。

发明内容

为了解决现有技术缺乏适用于四频激光陀螺且反射率低的旋光片， 本发明提供了一种用于四频激光陀螺且具有极低反射率的旋光片。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种旋光片， 其由一双面光滑的基底及二个对称设置在所述基底两面的低反射率透射 膜组成。其中，所述低反射率透射膜是由高低折射率相错的四层透射膜 组成，其中，奇数层透射膜为高折射率透射膜、偶数层透射膜为低折射 率透射膜，且所述第一层透射膜厚度范围为0.16至0.18工作波长，第 二层透射膜厚度范围为2.3至2.6工作波长，第三层透射膜厚度范围为 0.5至1.5工作波长，第四层透射膜厚度范围为0.8至1.2工作波长。

所述低反射率透射膜的第一层透射膜为高折射率材料的二氧化钛 层，其厚度为0.171的工作波长，第二层透射膜为低折射率材料的二氧 化硅，其厚度为2.351工作波长，第三层透射膜为高折射率材料的二氧 化钛，厚度为1.432工作波长，第四层透射膜为低折射率材料的二氧化 硅，厚度为0.855工作波长。

所述高折射率透射膜为二氧化钛或五氧化二钛，所述低折射率透射 膜为二氧化硅。

本发明具有极低反射率的旋光片作为法拉第偏频组件是四频激光陀 螺的核心器件，它使用时垂直插在激光谐振腔内的光路上。本发明旋光 片通过在旋光片基底两侧设置具有高低折射率交错排列的低反射率透射 膜，使得旋光片在0°±2°入射下，633nm±5nm波段的上具有极低的损耗 和较高的光透性能。

附图说明

图1是本发明旋光片一较佳实施方式的结构示意图；

其中，1-基底，2-低反射率透射膜，3-第一层透射膜，4-第二层透射膜， 5-第三层透射膜，6-第四层透射膜。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明作进一步的详细说明：

本发明旋光片设置在筒状永磁体中间，组成四频激光陀螺的核心器 件——法拉第偏频组件。实际使用时，所述法拉第偏频组件垂直插在激 光谐振腔的光路上，使得谐振腔激光垂直穿过旋光片。

请参考图1，其是本发明旋光片一较佳实施方式的结构示意图。图 中所述一种旋光片，其由一双面光滑的基底1及二个对称设置在所述基 底1两面的低反射率透射膜2组成。所述低反射率透射膜2是由高低折 射率相错的四层透射膜组成。其中，第一层透射膜3为高折射率材料的 二氧化钛层，其厚度为0.171的工作波长。第二层透射膜4为低折射率 材料的二氧化硅，其厚度为2.351工作波长。第三层透射膜5为高折射 率材料的二氧化钛，厚度为1.432工作波长。第四层透射膜6为低折射 率材料的二氧化硅，厚度为0.855工作波长。

另外，本实施方式中，所述穿过旋光片的谐振腔激光工作波长为 633nm，入射角度为零，也就是激光垂直穿过旋光片，此时，通过理论计 算，可以得到零损耗的透射光。而利用该旋光片进行实验验证时，透射 光损耗不超过百万分之十(其中，透射光损耗包括反射、吸收、散射等 各种损耗之和)，既该旋光片的剩余反射率更低于百万分之十，从而获得 极低的反射率。