[发明专利]曝光装置和曝光方法以及器件制造方法

权利要求书

1.一种经由液体将曝光光照射到基片上，由此来曝光上述基片 的曝光装置，其特征在于具备：

具有保持上述基片的基片架，在上述基片架上保持上述基片并可 移动的基片台；

供给液体的液体供给机构；

检测在上述基片架上是否保持着基片或者虚设基片的检测器；以 及

基于上述检测器的检测结果来控制上述液体供给机构的动作的 控制装置。

2.按照权利要求1所述的曝光装置，其特征在于还具备：

用于在基片架上吸附基片的基片吸附保持机构，

上述检测器是与基片吸附保持机构流体连接的压力检测器。

3.一种经由液体将曝光光照射到基片上，由此来曝光上述基片 的曝光装置，其特征在于具备：

具有保持上述基片的基片架，在上述基片架上保持基片并可移动 的基片台；以及

只要是在上述基片架上保持着基片或虚设基片的情况就在上述 基片台上供给液体的液体供给机构。

4.一种经由液体将曝光光照射到基片上，由此来曝光上述基片 的曝光装置，其特征在于具备：

保持上述基片并可移动的基片台；以及

只要是在上述基片台上保持着基片或虚设基片的情况就在上述 基片台上形成浸液区域的浸液机构。

5.按照权利要求4所述的曝光装置，其特征在于：

上述基片台在其所保持的基片或虚设基片的周围具有与其所保 持的基片或虚设基片的表面大致同一个面的平坦部。

6.按照权利要求5所述的曝光装置，其特征在于还具备：

被配置在上述基片台的平坦部的计测部件；以及

在上述计测部件上的至少一部分形成了浸液区域的状态下，检测 来自上述计测部件的光的检测系统。

7.按照权利要求1、3及4中任一项所述的曝光装置，其特征在于 还具备：

收容虚设基片的虚设基片库。

8.一种经由液体将曝光光照射到基片上，由此来曝光上述基片 的曝光装置，其特征在于：

具有用于保持上述基片的凹部和被配置在上述凹部的周围、与上 述凹部所保持的上述基片的表面大致同一个面的平坦部的基片台；以 及

在上述基片台上的凹部中配置物体，只要是上述物体表面与上述 平坦部成为大致同一个面的情况就在上述基片台上形成浸液区域。

9.按照权利要求8所述的曝光装置，其特征在于：

上述物体包含基片或虚设基片。

10.按照权利要求8所述的曝光装置，其特征在于还具备：

在上述凹部中未配置上述物体的情况下，禁止在上述基片台上形 成浸液区域的控制装置。

11.按照权利要求9所述的曝光装置，其特征在于还具备：

为了形成上述浸液区域而供给液体的浸液机构，

上述控制装置在上述凹部中未配置上述物体的情况下，中止利用 上述浸液机构的液体供给。

12.按照权利要求9所述的曝光装置，其特征在于：

上述控制装置在上述凹部中未配置上述物体的情况下，控制上述 基片台的移动以使得上述基片台从被照射曝光光的区域离开。

13.一种器件制造方法，使用权利要求1、3、4及8中任一项所述 的曝光装置。

14.一种经由液体将曝光光照射到可移动的基片台所保持的基片 上，由此来曝光上述基片的曝光方法，其特征在于包括以下步骤：

检测在上述基片台上是否保持着上述基片或者虚设基片；以及

依照上述检测结果来判断是否在上述基片台上形成浸液区域。

15.一种器件制造方法，使用权利要求14所述的曝光方法。