[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法无效
申请号: | 201110302814.7 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN102437050A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 真柄启二;桥诘彰夫;太田乔 | 申请(专利权)人: | 大日本网屏制造株式会社 |
主分类号: | H01L21/311 | 分类号: | H01L21/311 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 董雅会;郭晓东 |
地址: | 日本国京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 以及 方法 | ||
1.一种基板处理装置,通过磷酸、硫酸和水的混合液来处理基板,其特征在于,包括:
基板保持单元,其用于保持基板,
混合液供给单元,其具有第一储料容器和处理液的流通路,在上述第一储料容器中储存有要向被上述基板保持单元保持的基板供给的处理液,上述流通路从上述第一储料容器到达被上述基板保持单元保持的基板,在上述混合液供给单元中,通过向上述流通路供给磷酸、硫酸和水,使含有硫酸的液体和含有水的液体在上述流通路中相混合,从而使磷酸、硫酸和水的混合液的温度升高,由此将包含沸点附近的磷酸水溶液的混合液供给至上述基板。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
上述混合液供给单元还包括:
第一喷嘴,其向被上述基板保持单元保持的基板喷出处理液,
第一供给管,其用于使从上述第一储料容器向上述第一喷嘴供给的处理液流通;
上述流通路包括上述第一供给管的内部、上述第一喷嘴的内部、上述第一喷嘴和被上述基板保持单元保持的基板之间的空间。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,在上述第一储料容器中储存有含有磷酸、硫酸和水中的至少两者的混合液。
4.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,上述混合液供给单元包括:
水供给管,其用于使要向上述流通路供给的含有水的液体流通;
流量调节阀,其调节在上述水供给管内流动的液体的流量;
温度检测装置,其在上述流通路中检测磷酸、硫酸和水的混合液的温度;
流量控制装置,其根据上述温度检测装置的输出信息来控制上述流量调节阀。
5.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,
上述第一储料容器包括混合液储料容器,在该混合液储料容器中储存有磷酸、硫酸和水的混合液,
上述基板处理装置还包括回收单元,该回收单元对已供给至被上述基板保持单元保持的基板上的磷酸、硫酸和水的混合液进行回收,并将所回收的混合液供给至上述混合液储料容器。
6.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,上述混合液供给单元还包括:
磷酸供给单元,其向上述混合液储料容器和流通路中的至少一者供给含有磷酸的液体;
硫酸供给单元,其向上述混合液储料容器和流通路中的至少一者供给含有硫酸的液体。
7.一种基板处理方法,通过磷酸、硫酸和水的混合液来处理基板,其特征在于,包括:
升温工序,通过向处理液的流通路供给磷酸、硫酸和水,使含有硫酸的液体和含有水的液体在该流通路中相混合,从而使磷酸、硫酸和水的混合液的温度升高,其中,上述流通路从储存有要向基板供给的处理液的第一储料容器到达基板;
混合液供给工序,将在上述升温工序中生成的含有沸点附近的磷酸水溶液的混合液供给至基板。
8.一种基板处理装置,其特征在于,包括:
基板保持单元,其用于保持基板;
混合液供给单元,其使混合时发热的第一液体和第二液体在处理液的流通路中相混合,并将含有第一液体和第二液体的混合液供给至上述基板,其中,上述流通路到达被上述基板保持单元保持的基板。
9.如权利要求8所述的基板处理装置,其特征在于,
上述混合液供给单元包括:
第一液体供给单元,其用于供给在上述流通路中与第二液体混合的第一液体,
第二液体供给单元,其用于供给在上述流通路中与第一液体混合的第二液体;
上述第一液体供给单元包括:
第一储料容器,其储存有第一液体,
第一供给管,其与上述第一储料容器相连接,
第一喷嘴,其与上述第一供给管相连接,向被上述基板保持单元保持的基板喷出第一液体;
上述第一储料容器、上述第一供给管、上述第一喷嘴、上述第一喷嘴和与上述基板之间的空间形成上述流通路。
10.如权利要求9所述的基板处理装置,其特征在于,上述第二液体供给单元包括:
第二储料容器,其储存有第二液体;
第二供给管,其与上述第一供给管和第一喷嘴中的至少一者以及上述第二储料容器相连接。
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