[发明专利]兆声波清洗头及具有该清洗头的兆声波清洗系统有效
申请号: | 201110304716.7 | 申请日: | 2011-10-10 |
公开(公告)号: | CN102327883A | 公开(公告)日: | 2012-01-25 |
发明(设计)人: | 初国超;吴仪 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 100016 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 声波 洗头 具有 清洗 系统 | ||
1.一种兆声波清洗头,其特征在于,包括:
换能器;
谐振器,用于传播来自换能器的能量;该谐振器具有上表面和下表面,上表面耦合至换能器,谐振器内部具有不通透上表面、下表面的真空的孔阵列。
2.如权利要求1所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述孔阵列中的孔的几何形状包括但不限于:圆柱式、蜂窝式。
3.如权利要求2所述的兆声波清洗头,其特征在于,圆柱式孔的长度与等效直径比为5∶1到10∶1。
4.如权利要求1所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述换能器包括:
上壳体,具有电缆接头,通过电缆接头能够与功率放大器连接;
耦合层,包括压电晶体和耦合片,压电晶体与耦合片的上表面紧密连接,耦合层通过耦合片与上壳体耦合。
5.如权利要求4所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述上壳体还具有一进气孔和一排气孔,并且内部具有一带有多个均布凹槽的环状凸台将上壳体内部分为内外两环;由进气孔通入的冷却气,通过上壳体的内环和凹槽能够使耦合层被均匀冷却后由排气孔排除,从而实现对耦合层的均匀冷却。
6.如权利要求4所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述耦合层还包括密封圈,设于耦合片上,用于将耦合片与上壳体耦合的耦合处密封。
7.如权利要求4所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述耦合片由单一介质或多介质制成,厚度为1/4波长的整数倍。
8.如权利要求4所述的兆声波清洗头,其特征在于,该兆声波清洗头及所述耦合层的形状为但不限于:圆柱形、长方形或椭圆形。
9.如权利要求4所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述谐振器内的孔阵列的面积略大于压电晶体的有效面积。
10.如权利要求4所述的兆声波清洗头,其特征在于,所述谐振器作为下壳体,与耦合片的下表面耦合,并通过连接钉与上壳体连接。
11.一种具有如权利要求1-10中任意一项所述的兆声波清洗头的兆声波清洗系统,其特征在于,还包括安装支架,所述兆声波清洗头固定地或可移动地安装于安装支架上。
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