[发明专利]幕涂方法和幕涂设备

说明书

本申请要求于2010年10月5日提交的日本专利申请2010-225828的优先权，该申请在此通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及幕涂方法和幕涂设备，特别地涉及这样的幕涂方法和幕涂设备，其中由狭缝排出至少一层涂布液，并且通过使用引导帘幕式液膜形式的涂布液的帘幕边导轨，使排出的涂布液由帘幕喷嘴唇缘自由降落，并使帘幕式液膜与连续运动基材(web)接触以便在基材上形成涂膜。

背景技术

通常地，幕涂方法已作为用于制造光敏材料如照相软片的涂布方法被提出。幕涂方法是一种这样的方法，其中由各种液体组分如照相乳液形成的涂布液(下文中称为涂布液)自由降落以形成帘幕式液膜，并且然后使自由降落的涂布液膜与连续运动基材接触以便在基材上形成涂膜。

作为连续施加涂布液到运动基材上的幕涂方法，各种方法被提出。例如，已知各种涂布方法，如刮刀涂布、辊涂、绕线棒涂布、模涂(diecoating)等。

例如，如图1A显示，有一种方法，其包括：由幕涂头90的喷嘴狭缝排出涂布液，通过使用引导帘幕式液膜形式的涂布液92的帘幕边导轨91使排出的涂布液92自由降落，以形成帘幕式液膜，并使帘幕式液膜与连续运动基材94接触以便在基材94上形成涂膜，以及如图1B显示，有一种方法，其包括：由狭缝排出涂布液92，在滑道表面97上移动排出的涂布液92，通过使用引导帘幕式液膜形式的涂布液的帘幕边导轨91使涂布液92由帘幕喷嘴唇缘99自由降落，以形成帘幕式液膜，并使帘幕式液膜与连续运动基材94接触以便在基材94上形成涂膜。参考标记93表示抽吸装置，95表示支承滚筒，96表示滑道幕涂头，98表示滑道边导轨。同样，对于多层涂布，有一种方法，其包括：由各个喷嘴狭缝排出具有各种功能的涂布液，将排出的涂布液沉积在滑道表面以便形成涂膜。

在如图1B显示的滑道漏斗型幕涂方法中，已知发生所谓的茶壶现象。茶壶现象是这样的现象，其中涂布液在滑道表面流下并与位于滑道表面低处边缘的帘幕喷嘴唇缘99分开，并且在帘幕式膜形成后，帘幕式膜不是由唇缘边垂直降落，而是帘幕式膜移向唇缘后面。认为，当涂布液的粘度降低或其施加量增加时，换句话说，当雷诺数相对较大时，茶壶现象显著发生。

当茶壶现象发生时，不能引导帘幕式膜至帘幕边导轨，且不能形成帘幕式膜。即使当通过凭借帘幕边导轨维持帘幕式膜形成帘幕式膜时，帘幕式膜不是垂直落在帘幕边导轨的表面上，并且帘幕式膜变形，引起不均匀涂布。

为了抑制这种茶壶现象，例如，在日本专利申请公开(JP-A)号2001-46939中公开了使用平玻璃板作为帘幕边导轨的涂布方法。在JP-A号2006-55703中有幕涂设备的描述，其中平板型边导轨与基材的移动方向成一定角度。

JP-A号2003-71373公开了一种幕涂方法，其中在滑道表面上的液体流速和涂布液的表面张力被调整在预定的条件下。日本专利申请公开(JP-B)号06-51158和04-22631公开一种涂布方法，其中帘幕喷嘴的唇缘被制成预定形状。

根据在JP-A号2001-46939中所述的方法，通过增加帘幕边导轨表面的深度方向的长度，可解决由茶壶现象引起的问题，特别地，可解决不能引导帘幕式膜至帘幕边导轨的问题。但是，因为帘幕边导轨表面是平的，难以使帘幕式膜垂直下落在导轨表面上，并且容易发生变形。

在JP-A号2006-55703所述的设备中，帘幕边导轨是类似于在JP-A号2001-46939中所述的平板，并且难于纠正在导轨表面上的变形。另外，由于是有角度的边导轨，需要安排帘幕边导轨悬垂在基底材料上。因此在涂布操作中，污染物通过基底材料被引入至涂布部分，并且然后在帘幕边导轨与基底材料之间累积，并且切除基底材料等问题发生。

根据在JP-A号2003-71373和JP-B号06-51158和04-22631中所述的方法，可在一定程度上阻止茶壶现象的发生。但是，仅在有限的条件下可阻止，并且这些方法不能对涂布液的各种流速和物理性质做出反应。

因为在幕涂设备中仅有用于提供移动装置的狭窄和有限的空间，因此难以提供根据各种涂布条件的复杂调节机构。可能因为这个原因，目前，帘幕边导轨朝向由正面看帘幕式膜时的深度方向的移动迄今为止还没有实现。

发明内容

本发明的一个目的是提供幕涂方法和幕涂设备，其中帘幕边导轨可朝向由正面看帘幕式膜时的深度方向移动，以便防止由于茶壶现象涂布液不形成帘幕式膜或在帘幕边导轨上帘幕式膜变形。

解决该问题的方法如下：