[发明专利]痕量气体传感装置和用于泄漏检测的方法有效

专利信息
申请号: 201110307106.2 申请日: 2011-10-08
公开(公告)号: CN102565178A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 大卫·瓦尔;J·丹尼尔·格斯特;斯蒂芬·M·埃利奥特 申请(专利权)人: 安捷伦科技有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01M3/20
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 王安武
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 痕量 气体 传感 装置 用于 泄漏 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种痕量气体传感装置,其包括:

阴极;

阳极,其共轴地围绕所述阴极,其中,所述阴极和所述阳极限定环状电离室;

第一电路,其构造成用于将负电位施加到所述阴极;

第二电路,其构造成用于对由所述阴极产生的离子电流信号进行测量;

磁体组件,其构造成用于在所述电离室中产生磁场;

真空罩,其围绕所述阴极和所述阳极、并且包括与所述电离室流体连通的气体入口;和

选择性透过所述痕量气体的膜,所述膜密封所述气体入口、并且构造成用于使所述痕量气体从所述膜的外侧透入到所述气体入口中。

2.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其中,所述阴极包括细长构件、第一端板和第二端板,所述细长构件沿着纵轴布置,所述第一端部与所述纵轴正交,所述第二端板与所述纵轴正交并且设置成与所述第一端部相距一轴向距离。

3.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其包括吸气泵,所述吸气泵布置在所述气体入口和所述电离室之间。

4.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其中,所述第一电路构造成用于施加从-2000伏特到-9000伏特范围内的负电位。

5.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其包括与所述阳极连通的接地电极。

6.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其中,所述阴极具有从由钼、钽和钛组成的组中选出的成分。

7.根据权利要求6所述的痕量气体传感装置,其中,所述阳极具有从由非磁性不锈钢、铝、铜和钛组成的组中选出的非磁性成分。

8.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其中,所述膜构造成在从0℃到100℃的温度范围内对所述痕量气体表现出基本恒定的选择透过性。

9.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其中,所述膜呈圆柱形。

10.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其中,所述膜包括多个层,所述多个层至少包括多孔层和设置在所述多孔层上的半透过性层。

11.根据权利要求1所述的痕量气体传感装置,其包括电压源,所述电压源构造成用于向所述阳极施加负电偏压。

12.一种痕量气体传感装置,其包括:

阴极,其包括细长构件、第一端板和第二端板,所述细长构件沿着纵轴布置,所述第一端部与所述纵轴正交,所述第二端板与所述纵轴正交并且设置成与所述第一端部相距一轴向距离;

阳极,其共轴地围绕所述阴极,其中,所述阴极和所述阳极限定环状电离室;

真空罩,其围绕所述阴极和所述阳极、并且包括与所述电离室流体连通的气体入口;和

选择性透过所述痕量气体的膜,所述膜密封所述气体入口、并且构造成用于使所述痕量气体从所述膜的外侧透入到所述气体入口中。

13.根据权利要求12所述的痕量气体传感装置,其包括磁体组件,所述磁体组件构造成用于在所述电离室中产生磁场,所述磁体组件包括圆柱形磁体、第一端盖和第二端盖,所述圆柱形磁体围绕所述电离室,所述第一端盖与所述纵轴正交、并且与所述第一端板轴向分隔开,所述第二端盖与所述纵轴正交、并且与所述第二端板轴向分隔开。

14.根据权利要求13所述的痕量气体传感装置,其包括第一绝缘体和第二绝缘体,所述第一绝缘体轴向设置在所述第一端盖和所述第一端板之间,所述第二绝缘体轴向设置在所述第二端盖和所述第二端板之间。

15.根据权利要求12所述的痕量气体传感装置,其中,所述细长构件包括空心部分,所述痕量气体传感装置还包括电极,所述电极延伸穿过所述真空罩并进入所述空心部分中与所述细长构件信号通信。

16.根据权利要求12所述的痕量气体传感装置,其中,所述阳极包括第一阳极端和第二阳极端,所述第一阳极端在远离所述电离室的方向上与所述第一端板轴向分隔开,所述第二阳极端在相对的远离所述电离室的方向上与所述第二端板轴向分隔开。

17.根据权利要求12所述的痕量气体传感装置,其中,所述阳极包括第一大直径部分、第二大直径部分和减小直径部分,所述减小直径部分轴向布置在所述第一大直径部分和所述第二大直径部分之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安捷伦科技有限公司,未经安捷伦科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110307106.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top