[发明专利]一种Ti-Mo-N多元硬质薄膜在审
申请号: | 201110307386.7 | 申请日: | 2011-10-11 |
公开(公告)号: | CN102409290A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 韩晓芬 | 申请(专利权)人: | 宁波市瑞通新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
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地址: | 315177 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ti mo 多元 硬质 薄膜 | ||
1.一种用于切削工具表面的Ti-Mo-N多元硬质薄膜,其是以Ti、Mo、N为薄膜的基本组成元素,采用磁控溅射的方法在切削工具表面制备Ti-Mo-N三元薄膜;具体通过以下制备步骤制备得到:
先将切削工具基体材料表面抛光,并分别用氢氟酸、丙酮、酒精和去离子水等在超声波清洗器中各清洗约10min后烘干备用;
随后,将基体材料置于磁控溅射设备真空室内的样品台上,并将纯Ti靶和Ti50Mo50合金靶分别置于不同的阴极靶位;
随后将真空室内真空度抽到≤5×10-4Pa,同时通入流量为8-10sccm的Ar,当真空室气压为2-4Pa时,预溅射2-3min,预溅射的功率为50-70W,以进一步清洗基体材料的成膜表面;
随后维持Ar的流量为8-10sccm,控制基体材料温度为40-50℃,当真空室气压为1-1.5Pa时,向基体材料施加100-150V的负偏压,同时移开纯Ti靶的挡板,以50-70W的功率进行溅射,溅射时间为5-10min,以形成一层纯Ti薄膜;
随后开始通入流量为0.3-0.6sccm的N2,并维持Ar的流量为8-10sccm、真空室气压为1-1.5Pa、基体材料的负偏压为100-150V、基体材料的温度为40-50℃,以50-70W的功率进行溅射,溅射时间为15-25min,以形成一层Ti-N二元薄膜;
随后维持Ar的流量为8-10sccm、N2的流量为0.3-0.6sccm、真空室气压为1-1.5Pa、基体材料的负偏压为100-150V,升高基体材料的温度为80-100℃,同时关闭纯Ti靶的挡板并移开Ti50Mo50合金靶的挡板,以50-70W的功率进行溅射,溅射时间为80-100min,以形成Ti-Mo-N三元薄膜。
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