[发明专利]一种电子扫描显微镜环境磁场的监测方法有效

专利信息
申请号: 201110307987.8 申请日: 2011-10-12
公开(公告)号: CN102445567A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 夏婷婷;毛智彪;马兰涛 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G01Q30/18 分类号: G01Q30/18
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 电子扫描 显微镜 环境 磁场 监测 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种磁场检测方法,尤其涉及一种电子扫描显微镜环境磁场的监测方法。

背景技术

现代大规模集成电路制造通过光刻工艺和刻蚀工艺在硅片上形成各种器件图形。随着图形关键尺寸的不断缩小,对其精确程度要求越来越高。扫描电子显微镜是测量图形关键尺寸的重要仪器,其原理是受控的电子束扫过物体表面时,在表面的不同区域会产生不同数量的二次电子,收集二次电子,可以生成所测量图形的图像。

如果有外界磁场的干扰,扫描电子束将在磁场中受到干扰,从而导致测量结果有偏差。通常在扫描电子显微镜安装前要对环境磁场进行量测并消除环境磁场的影响。这种方法可以有效地消除持续性的环境磁场的影响,但是对偶发性的环境磁场影响则无法监测。偶发性的环境磁场由于其偶发性,磁场发生源通常不易确认和消除。在存在偶发性的环境磁场的环境下生产,需要对偶发性的环境磁场的影响进行监测。

偶发性的环境磁场会影响部分硅片的量测结果。如果不能及时准确的判断受影响的量测结果,导致误判,或者造成不必要的停机检查,或者产生不必要的产品报废。

现有的测量扫描电子显微镜磁场的方法是采用专门的测量设备,在计划的时间点进行监测。这种方法可以监测持续性的环境磁场,但是不能有效地监测偶发性的环境磁场。对偶发性环境磁场的监测需要一种动态的监测方法。

发明内容

针对上述存在的问题,本发明的目的是提供一种借助测量图形的线宽或线宽粗糙度对扫描电子显微镜环境磁场的进行监测方法。环境磁场会对电子扫描显微镜的量测数据产生影响。通过对量测数据的处理,建立动态监控图,实现对电子扫描显微镜环境磁场的动态监测。

本发明的目的是通过下述技术方案实现的:

一种电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,包括以下步骤:

选定所需量测硅片的一线条图形;

       在所述线条图形的一侧选取多个测量点,并且采集所述测量点的量测数据,在其另一侧采取所述测量点的相对点的量测数据;

       分别计算出所述线条图形两侧相对应点的所述量测数据之间的第一差值;

       获取计算出的所述第一差值之中的最大差值和最小差值,并计算出所述最大差值和所述最小差值之间的第二差值,将所述第二差值作为测量结果;

       将所述测量结果记录在环境磁场影响控制图中;

       根据每次记录在所述环境影响控制图中的所述测量结果,获得一环境磁场影响的动态监控图;

       根据所述动态监控图,监测扫描式电子显微镜的环境磁场变化,并判定对所述硅片的处理方案。

上述的电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,利用扫描时电子显微镜的多点线宽量测模式获取所述量测数据。

上述的电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,所述线条图形是一经过曝光和显影之后的光刻胶线条图形。

上述的电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,所述线条图形是一刻蚀之后的衬底线条图形。

上述的电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,以天为时间记录单位,记录所述测量结果;

 上述的电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,以七天为一周期,在所述控制图中国绘制出每天的所述测量结果,获得所述环境磁场影响的动态监控图。

 

与已有技术相比,本发明的有益效果在于:

本发明通过测量线条图形的线宽或线宽粗糙度:

第一,提供了对电子扫描显微镜环境磁场的动态监测方法;

第二,通过动态监测避免了对受影响的量测结果的误判。

第三,通过该动态监测结果得出扫描式电子显微镜的环境磁场变化情况,从而可以此为基础,判定所量测的硅片的处理方案。

附图说明

图1是本发明的一种电子扫描显微镜环境磁场的监测方法的流程图。

图2是进行多点量测数据采集的线条图形的示意图。

具体实施方式

下面结合原理图和具体操作实施例对本发明作进一步说明。

如图1、图2所示,本发明的一种电子扫描显微镜环境磁场的监测方法,其中,包括以下步骤:

步骤1:利用电子扫描显微镜对一硅片进行扫描,获得硅片的线条图形。

在此步骤,所选定的线条图形可以是任何需要量测的经过抛光和显影之后的光刻胶线条图形,还可以是经过刻蚀之后的衬底线条图形。

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