[发明专利]一种瓷质抛光砖及其生产方法

权利要求书

1.一种瓷质抛光砖生产方法，其特征在于它包括以下步骤：

(1)按常规方法制备瓷质抛光砖坯体粉料，备用；

(2)制备瓷质抛光砖面浆，面浆成分与步骤1中所述的坯体粉料相同，但其中K₂O+Na₂O：6～8％，杂质≤4％(均为重量份)；细度为500目筛余量在0.5％以内，流速为25-30s(50mL)，比重为1.68-1.72g/cm³，备用；

(3)瓷质抛光砖坯体的制备：将步骤(1)中制得的瓷质抛光砖坯体粉料均匀铺布在压砖机模腔中，在20-50MPa的压力下，将瓷质抛光砖坯体粉料压制成瓷质抛光砖生坯；

(4)干燥：将瓷质抛光砖生坯在干燥窑中于150-300℃下烘干；

(5)施面浆：将步骤(2)制得的瓷质抛光砖面浆施在干燥后的瓷质抛光砖生坯上，单位面积施面浆重量为1000-1500g/m²。

(6)干燥和烧成：将施过面浆的瓷质抛光砖生坯再在干燥窑中于150-300℃下烘干，接着在辊道窑中使用常规的陶瓷烧成温度制度、压力制度和气氛制度，将施过面浆的瓷质抛光砖生坯一次烧成，烧成温度为1150-1250℃，烧成周期为40-90min，制得瓷质抛光砖半成品；

(7)磨边和抛光处理：利用常规的磨边和抛光加工设备，采用弹性磨块，对半成品进行磨边和抛光处理，磨削量在0.1-0.2mm，制得瓷质抛光砖成品；

(8)拣选、包装、入库。

2.如权利要求1所述的瓷质抛光砖生产方法，其特征在于在步骤(5)之后，采用丝网印刷机、辊筒印刷机或者喷墨印刷机进行渗花釉的印刷装饰。

3.如权利要求1或2所述的方法所得的瓷质抛光砖。