[发明专利]包含十氟戊烷和氟化氢的共沸物组合物和近共沸物组合物及其用途有效
申请号: | 201110309787.6 | 申请日: | 2006-11-01 |
公开(公告)号: | CN102516017A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | R·N·米勒;M·J·纳帕;V·N·M·劳;A·C·西弗特 | 申请(专利权)人: | 纳幕尔杜邦公司 |
主分类号: | C07C19/08 | 分类号: | C07C19/08;C07C17/383 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李炳爱 |
地址: | 美国特拉华*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 戊烷 氟化氢 共沸物 组合 近共沸物 及其 用途 | ||
本申请是国际申请日为2006年11月01日、国际申请号为PCT/US2006/042773(国家申请号为200680049277.7)、发明名称为“包含九氟戊烯和氟化氢的共沸物组合物及其用途”申请的分案申请。
技术领域
本发明提出包含九氟戊烯和氟化氢的共沸物组合物。所述共沸物组合物用于制备九氟戊烯的方法和纯化九氟戊烯的方法。
背景技术
含氯化合物,如氯氟烃(CFCs),被认为对地球的臭氧层有害。已发现代替CFCs使用的很多氢氟烃(HFCs)有助于全球变暖。因此,需要识别不损害环境而且具有作为制冷剂、溶剂、清洁剂、起泡剂、气雾抛射剂、传热介质、电介质、灭火剂、杀菌剂和动力循环工作流体所必需性质的新化合物。在分子中包含一个或多个氢的氟化烯烃被认为用于某些应用,例如用于制冷。
发明内容
本发明一个方面涉及一种共沸物或近共沸物组合物,所述组合物包含1,1,1,3,4,4,5,5,5-九氟-2-戊烯(Z-HFC-1429mzy,CF3CH=CFCF2CF3)和1,1,1,2,4,4,5,5,5-九氟-2-戊烯(Z-HFC-1429myz,CF3CF=CHCF2CF3)和氟化氢(HF)。
本发明另一方面涉及一种从1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-十氟戊烷(HFC-43-10mee)分离Z-HFC-1429的方法,所述方法包括:a)形成 Z-HFC-1429、HFC-43-10mee和氟化氢的混合物;并且b)使所述混合物经过蒸馏步骤,从蒸馏步骤形成塔馏出物组合物,所述组合物包括基本不含HFC-43-10mee的氟化氢和Z-HFC-1429的共沸物或近共沸物组合物。
本发明另一方面涉及一种从混合物分离Z-HFC-1429的方法,所述混合物包括Z-HFC-1429和氟化氢的共沸物或近共沸物组合物,所述方法包括:a)使所述混合物经过第一蒸馏步骤,其中富集(i)氟化氢或(ii)Z-HFC-1429的组合物作为第一馏出物组合物去除,第一塔底物组合物富集所述组分(i)或(ii)的其余组分;并且b)使所述第一馏出物组合物经过在不同压力进行的第二蒸馏步骤,其中在(a)中作为第一塔底物组合物富集的组分在第二馏出物组合物中去除,第二塔底物组合物富集在第一馏出物组合物中富集的相同组分。
本发明另一方面涉及一种从Z-HFC-1429、HFC-43-10mee和氟化氢的混合物纯化Z-HFC-1429的方法,所述方法包括:a)使所述混合物经过第一蒸馏步骤,以形成第一馏出物组合物和第一塔底物组合物,第一馏出物组合物包括含Z-HFC-1429和氟化氢的共沸物或近共沸物组合物,第一塔底物组合物包含HFC-43-10mee;b)使所述第一馏出物组合物经过第二蒸馏步骤,富集(i)氟化氢或(ii)Z-HFC-1429的组合物从第二蒸馏步骤作为第二馏出物组合物去除,第二塔底物组合物富集所述组分(i)或(ii)的其余组分;并且c)使所述第二馏出物组合物经过在不同于第二蒸馏步骤的压力进行的第三蒸馏步骤,其中在(b)中在第二塔底物组合物中富集的组分在第三馏出物组合物去除,第三塔底物组合物富集在第二馏出物组合物中富集的相同组分。
本发明另一方面涉及一种制备Z-HFC-1429的方法,所述方法包括:a)将HFC-43-10mee加入脱氟化氢反应区域,以形成包含Z-HFC-1429、未反应HFC-43-10mee和氟化氢的反应产物组合物;b)使所述反应产物组合物经过第一蒸馏步骤,以形成第一馏出物组合物和第一塔底物组合物,第一馏出物组合物包括含Z-HFC-1429和氟化 氢的共沸物或近共沸物组合物,第一塔底物组合物包含HFC-43-10mee;c)使所述第一馏出物组合物经过第二蒸馏步骤,富集(i)氟化氢或(ii)Z-HFC-1429的组合物从第二蒸馏步骤作为第二馏出物组合物去除,第二塔底物组合物富集所述组分(i)或(ii)的其余组分;并且d)使所述第二馏出物组合物经过在不同于第二蒸馏步骤的压力进行的第三蒸馏步骤,其中在(c)中在第二塔底物组合物中富集的组分在第三馏出物组合物去除,第三塔底物组合物富集在第二馏出物组合物中富集的相同组分。
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