[发明专利]一种高纯化学品溶解器无效
申请号: | 201110310720.4 | 申请日: | 2011-10-14 |
公开(公告)号: | CN102500251A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 刘飞;杨毅;杨正光;陶志;孟文祥 | 申请(专利权)人: | 瓮福(集团)有限责任公司 |
主分类号: | B01F1/00 | 分类号: | B01F1/00;B01F7/18;B01F15/02;B01F15/06 |
代理公司: | 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 | 代理人: | 刘安宁 |
地址: | 550002 贵州省*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 化学品 溶解 | ||
技术领域
本发明涉及溶解装置,具体来说涉及一种高纯化学品溶解器。
背景技术
高纯化学品是超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料之一,主要用于芯片的清洗和腐蚀。它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。超净高纯化学品具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和强腐蚀性等特点。
高纯化学品中的碱金属杂质(Na、Ca等)会溶进氧化膜中,从而导致耐绝缘电压下降;若重金属杂质(Cu、Fe、Cr、Ag等)附着在硅晶片的表面上,会使P-N结耐电压降低。杂质分子或离子的附着又是造成腐蚀或漏电等化学故障的主要原因。因此,随着微电子技术的飞速发展,对超净高纯化学品的要求也越来越高,不同级别超净高纯剂中的金属杂质和颗粒的含量要求各不相同。
目前结晶法是高纯化学品纯化的方法之一,即首先将纯度较高的化学品冷却降温结晶,然后利用一定的手段将进一步纯化的晶体和杂质含量较高的母液进行分离,最后将晶体溶解成一定浓度的高纯化学品。由于高纯化学品的强腐蚀性,在溶解过程中,高纯化学品容易对溶解设备造成一定的腐蚀,从而导致产品产生二次污染。
发明内容
本发明的目的在于克服上述高纯化学品在溶解过程中腐蚀设备而提供的一种溶解器,以便高纯化学品充分溶解,同时不会对产品产生二次污染。
本发明提供的溶解器,它的上部分为圆柱形,下部分为锥形结构;溶解器内壁有一采用高纯塑料制作的内衬,以达到防腐、洁净的效果;溶解器内部设置有盘管,盘管上设有进出口,可由盘管通入介质,以满足高纯化学品溶解的需求;溶解器顶部设有液位计,便于观察溶解器内液位;同时溶解器顶部设有多个物料加入口;溶解器内设有搅拌器;溶解器的侧壁设置有取样口,方便对高纯化学品取样分析;溶解器器壁开有密度计和温度计插入孔。
上述搅拌器为变频式搅拌器,可调速。
上述溶解器物料加入口2~4个。
上述溶解器取样口1~3个。
上述溶解器温度计插入孔2~4个。
本发明的有益效果是:①采用高纯塑料作内衬有较好的耐腐蚀性,可以有效地避免高纯化学品对溶解器的腐蚀,同时克服了其他材质带入杂质离子的缺点;②溶解器的底部采用锥形结构,有效避免了不同批次的高纯化学品之间的污染;③同时溶解器顶部设有多个物料加入口,便于原料加入、超纯水加入和溶解器清洗,以便高纯化学品达到混合的效果;④本溶解器也可用作不同高纯化学品之间的混合器。
附图说明
图1为电子化学品溶解器的结构示意图;
图中1为盘管进口;2为温度计插入孔;3为取样口;4为温度计插入孔;5为物料加入口;6为盘管出口;7为密度计插入孔;8为盘管;9为搅拌器;10为内衬;11为液位计插入孔;M为电动机。
具体实施方式
实施例1
某厂所使用的高纯化学品溶解器,如图所示,其溶解器的上部分为圆柱形,下部分为锥形结构;溶解器内壁有一采用高纯塑料制作的内衬10;溶解器内部设置有盘管8,盘管8上设有进口1和出口6;溶解器顶部设有液位计插入孔11;同时溶解器顶部设有2个物料加入口5;溶解器内设有搅拌器9,可调速;溶解器的侧壁设置有1个取样口3;溶解器器壁开有1个密度计插入孔7和2个温度计插入孔2、4。
该溶解器的主要尺寸为:溶解器直径2.2m,总高2.55m,其中圆柱高1.6m,锥体高0.95m。
实施例2
某厂所使用的高纯化学品溶解器,如图所示,其溶解器的上部分为圆柱形,下部分为锥形结构;溶解器内壁有一采用高纯塑料制作的内衬10;溶解器内部设置有盘管8,盘管8上设有进口1和出口6;溶解器顶部设有液位计插入孔11;同时溶解器顶部设有4个物料加入口5;溶解器内设有搅拌器9,可调速;溶解器的侧壁设置3个有取样口3;溶解器器壁开有1个密度计插入孔7和4个温度计插入孔。
该溶解器的主要尺寸为:溶解器直径2.2m,总高2.55m,其中圆柱高1.6m,锥体高0.95m。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,任何未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
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