[发明专利]含铜氧化物的形成方法无效

专利信息
申请号: 201110310770.2 申请日: 2011-10-14
公开(公告)号: CN102951670A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 陈庆盛 申请(专利权)人: 旭德科技股份有限公司
主分类号: C01G3/02 分类号: C01G3/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 封新琴
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 氧化物 形成 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及一种混合物的形成方法,且特别涉及一种含铜氧化物的形成方法。

【背景技术】

目前主要的含铜氧化物的制作方法有下列三种方式。第一种方式是将含铜离子酸性或碱性溶液和提供的另一种可还原铜的溶液,如氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢铵、氨水、尿素或硼氢化钠的溶液等,同时倒入容置槽中,并通过搅拌的方式进行混合。第二种方式是将含铜离子酸性或碱性溶液倒入另一种可还原铜的溶液中,并通过搅拌的方式进行混合。第三种方式是将另一种离子溶液倒入含铜离子酸性或碱性溶液中,并通过搅拌的方式进行混合。然而,这三种含铜氧化物的制作方式在进行混合的过程中,混合物的酸碱浓度值会不断改变,易导致所形成的含铜氧化物产生浓度、颗粒大小与成份不均的现象。

【发明内容】

本发明提供一种含铜氧化物的形成方法,其在制作的过程中可规则性且连续性地混合含铜离子酸性或碱性溶液及可还原铜的溶液,该可还原铜的溶液例如为氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢铵、氨水、尿素或硼氢化钠溶液等,以达成浓度、温度、速度均一化的效果。

本发明提出一种含铜氧化物的形成方法,其包含下述步骤:提供静态型混合搅拌装置,该静态性混合搅拌装置具有第一流体注入口、第二流体注入口、搅拌本体以及流体输出口,其中第一流体注入口、第二流体注入口、搅拌本体以及流体输出口相互连通;提供含铜离子酸性或碱性溶液;提供可还原铜的溶液;分别将含铜离子酸性或碱性溶液及可还原铜的溶液注入第一流体注入口以及第二流体注入口,并通过搅拌本体来搅拌含铜离子酸性或碱性溶液及可还原铜的溶液,而在流体输出口形成含铜氧化物。

在本发明的一实施例中,上述的含铜离子酸性或碱性溶液包括硫酸铜溶液、氯化铜、氨铜离子溶液(copper ammine complex ion)(其化学式为(Cu(NH3)4))或醋酸铜的溶液。

在本发明的一实施例中,上述的可还原铜的溶液包括氢氧化钠溶液、碳酸钠溶液、碳酸氢铵溶液、氨水、尿素或硼氢化钠溶液。

在本发明的一实施例中,上述的含铜氧化物包括氧化铜、氧化亚铜或碱式碳酸铜。

在本发明的一实施例中,上述的含铜氧化物的形成方法还包括提供另一种可还原铜的溶液,该另一种可还原铜的溶液包括氢氧化钠溶液、碳酸钠溶液、碳酸氢铵溶液、氨水、尿素或硼氢化钠溶液,其中静态型混合搅拌装置还包括第三流体注入口,分别将含铜离子酸性或碱性溶液、可还原铜的溶液及另一种可还原铜的溶液注入第一流体注入口以及第二流体注入口与第三流体注入口。

基于上述,本发明的含铜氧化物的形成方法是将含铜离子酸性或碱性溶液及可还原铜的溶液注入于静态型混合搅拌装置,通过静态型混合搅拌装置的搅拌本体规则性且连续性地混合含铜离子酸性或碱性溶液及可还原铜的溶液,以形成浓度均一化的含铜氧化物。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下。

【附图说明】

图1为本发明的一种含铜氧化物的形成方法的剖面示意图。

图2为本发明的另一种含铜氧化物的形成方法的剖面示意图。

【主要附图标记说明】

110、110a:静态型混合搅拌装置

112:第一流体注入口

114:第二流体注入口

116:搅拌本体

118:流体输出口

119:第三流体注入口

F1:含铜离子酸性或碱性溶液

F2:可还原铜的溶液

F3:另一种可还原铜的溶液

M1、M2:含铜氧化物

【具体实施方式】

图1为本发明的一种含铜氧化物的形成方法的剖面示意图。请参考图1,依照本实施例的含铜氧化物的形成方法,首先,提供静态型混合搅拌装置110。在本实施例中,静态性混合搅拌装置110具有第一流体注入口112、第二流体注入口114、搅拌本体116以及流体输出口118,其中第一流体注入口112、第二流体注入口114、搅拌本体116以及流体输出口118相互连通。

接着,提供含铜离子酸性或碱性溶液F1,其中含铜离子酸性或碱性溶液F1例如是硫酸铜溶液、氯化铜溶液、氨铜离子溶液(copper ammine complex ion)或醋酸铜溶液。

接着,提供可还原铜的溶液F2,其中可还原铜的溶液F2例如氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢铵、氨水、尿素或硼氢化钠溶液等。

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