[发明专利]一种储存式覆膜浸渍钡钨阴极及制备方法无效
申请号: | 201110313166.5 | 申请日: | 2011-10-17 |
公开(公告)号: | CN103050354A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 张明晨;张洪来;刘濮鲲;俞世吉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | H01J23/04 | 分类号: | H01J23/04;H01J9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 储存 式覆膜 浸渍 阴极 制备 方法 | ||
1.一种储存式覆膜浸渍钡钨阴极,包括钼筒、热子、阴极;钼筒内的隔断将钼筒内分为两个容腔,一容腔内固接有热子,热子的引线由外端伸出;另一容腔内固接有阴极;其特征在于,阴极采用小室钨海绵基体结构;其中,阴极分为内外两层钨海绵基体,内层钨海绵基体(31)内端面与隔断(11)固连,其余各面以外层钨海绵基体(32)包覆,外层钨海绵基体(32)侧面与另一容腔内壁固接,内层钨海绵基体(31)的孔度为40%-45%,外层钨海绵基体(32)的孔度为20%-22%;在外层钨海绵基体(32)的外端面,覆有一层Os-Ir-Al膜(33)。
2.如权利要求1所述的储存式覆膜浸渍钡钨阴极,其特征在于,所述内外两层钨海绵基体,外层钨海绵基体(32)厚0.3mm±0.05mm,内层钨海绵基体(31)厚1.2mm±0.05mm。
3.一种如权利要求1所述的储存式覆膜浸渍钡钨阴极的制备方法,其特征在于,包括步骤:
a、首先,用孔度为20%-22%钨铜棒按照另一容腔的尺寸进行车制,然后以钡钨阴极钨海绵制备方法进行化学去铜和高频去铜,得到所需的外层钨海绵基体;
b、将平均颗粒度为3-4μ的钨粉70mg-75mg放入事先制备好的外层钨海绵基体内,用模具将外层钨海绵基体内的钨粉压平,得到一个外层钨海绵基体内凹面和侧面把内部钨粉包覆起来的钨海绵基体;
c、将b步压好的钨海绵基体放入氢炉,在氢气中2000℃±100℃温度下,保温时间30±5分钟,烧结成小室钨海绵基体待用;
d、将c步烧结好的小室钨海绵基体放入氢炉中,在1600℃~1650℃温度下,保温1~2分钟,将铝酸盐浸渍到小室钨海绵基体中;
e、将氧化铝,硝棉和乙酸丁酯混合物填充于放有热子的钼筒一容腔内,放入烘箱内用80℃±10℃温度烘干60±30分钟,然后放入氢炉中在1700℃±100℃温度下,保温1~2分钟烧结,制备成热子组件;
f、在带有热子组件的钼筒另一容腔内放入少量钨钴焊料,再放入d步浸渍好盐的小室钨海绵基体,一起放入氢炉中,烧结温度1550℃~1600℃,保温1~2分钟,完成阴极与热子组件的焊接;
g、将f步中制备好的阴极热子组件的阴极的内凹球面表面在仪表车床上进行精车,球面半径R=6.5±0.05,表面粗糙度Ra≤1.6;
h、将外表面车好的阴极放入覆膜台中,在阴极外表面覆一层厚度为的Os-Ir-Al膜(33),得成品。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述a)步骤中,其内层钨粉的平均颗粒度为3-4μ,质量>70mg,保证压制烧结后内层孔度为40%-45%。
5.如权利要求3所述的方法,其表征在于,所述h)步骤中,阴极表面采用直流四极溅射法覆Os-Ir-Al膜(33),覆膜时间为20分钟。
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