[发明专利]一种球形加氢催化剂的制备方法有效
申请号: | 201110313785.4 | 申请日: | 2011-10-17 |
公开(公告)号: | CN103041837A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 张艳侠;袁胜华;张皓;王鼎聪;段日 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司抚顺石油化工研究院 |
主分类号: | B01J27/19 | 分类号: | B01J27/19;B01J35/08;C10G45/00 |
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地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 球形 加氢 催化剂 制备 方法 | ||
1.一种球形加氢催化剂的制备方法,包括:
(1)将氧化铝前身物与阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、胶粘剂混合均匀,其中胶粘剂的加入量为氧化铝重量的2.0%~10.0%,阴离子表面活性剂的加入量为氧化铝重量的0.5%~8.0%,阳离子表面活性剂的加入量为氧化铝重量的0.1%~2.0%;
(2)步骤(1)所得的混合物经混捏、挤条和预干燥后,用球形整粒机切粒和成球,然后干燥和焙烧,得到球形催化剂载体;
(3)步骤(2)所得的球形催化剂载体采用浸渍法负载活性金属组分,然后进行干燥和焙烧,得到球形加氢催化剂;
其中步骤(1)中氧化铝前身物与阴离子表面活性剂和阳离子表面活性剂、胶粘剂的加入顺序按如下方法之一加入:I、向胶粘剂中先加入阴离子表面活性剂混合后,再加入阳离子表面活性剂,然后将上述混合物加入到氧化铝前身物中;II、将氧化铝前身物与阳离子表面活性剂混合后,再加入胶粘剂和阴离子表面活性剂的混合物中;III、向胶粘剂中加入阴离子表面活性剂混合均匀后,再加入到氧化铝前身物中,最后加入阳离子表面活性剂;IV、向氧化铝前身物中加入胶粘剂和阴离子表面活性剂的混合物,再加入阳离子表面活性剂。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所说的阴离子表面活性剂为烷基苯磺酸系列、烷基奈磺酸系列、有机脂肪酸系列、烷基苯磺酸盐系列、烷基奈磺酸盐系列、有机硫酸盐系列、有机磷酸盐系列中的一种或多种;所述的阳离子表面活性剂包括有机季铵盐系列、有机季磷盐系列中的一种或多种。
3.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所述的球形催化剂载体含有助剂组分,所述的助剂为硅、锆、钛、铁、磷、硼中的一种或多种。
4.按照权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(1)中所述的胶粘剂采用小孔氧化铝、硝酸铝和硫酸铝中的一种或多种与无机酸和/或有机酸混合制得,其中无机酸和/或有机酸的加入量占胶粘剂重量的30wt%~70wt%。
5.按照权利要求4所述的方法,其特征在于步骤(1)中所述的无机酸选用硝酸、磷酸、硫酸、盐酸中的一种或几种,所述的有机酸选用醋酸、柠檬酸、草酸中的一种或几种。
6.按照权利要求1所述的方法,其特征在于在混合、捏合过程中,加入助挤剂和/或扩孔剂。
7.按照权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(2)所述的预干燥温度为20~70℃,时间为0.2~1.0小时,所述的干燥是在温度为 90~130 ℃干燥时间为 2~4小时,焙烧是在温度为600~900 ℃焙烧为3~6小时。
8.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所述的球形催化剂载体以氧化铝为主要成分,含有氧化硼和二氧化硅,氧化硼在载体中的重量含量为0.5%~10.0%,二氧化硅在载体中的重量含量为0.5%~20.0%。
9.按照权利要求8所述的方法,其特征在于所述的球形催化剂载体中,氧化硼的重量含量为2.0%~8.0%,二氧化硅的重量含量为2.0%~15.0%。
10.按照权利要求8或9所述的方法,其特征在于所述的球形催化剂载体的制备过程中,硅源和硼源在步骤(1)中加入,其中硅源为水玻璃或硅溶胶,硼源采用硼酸。
11.按照权利要求10所述的方法,其特征在于所述的硼酸采用硼酸水溶液或硼酸酸性溶液的方式加入,溶液的温度为30~100℃。
12.按照权利要求10或11所述的方法,其特征在于所述球形催化剂载体的制备过程中,硅源在氧化铝前身物、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、胶粘剂混合的任一步骤中加入,硼源待上述物料混合均匀后再加入。
13.按照权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(3)中,在干燥之前,是将浸渍后物料在空气或惰性气体中存放0.5~2.0小时。
14.按照权利要求1所述的方法,其特征在于步骤(3)所述的干燥温度为100~120℃,干燥时间为2.0~5.0小时,焙烧是在温度为350~550℃,焙烧时间为3.0~6.0小时。
15.按照权利要求1所述的方法,其特征在于所述的活性金属是第VIII族和第VIB族金属,其中第VIII族金属为Ni或Co,第VIB族金属为W或Mo,以催化剂的重量为基准,第VIII族金属以氧化物计的含量为0.5wt%~9.0wt%,第VIB族金属以氧化物计的含量为5.0wt%~30.0 wt%。
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