[发明专利]微波等离子体源和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种微波等离子体源，是向实施等离子体处理的处理容器内导入微波、并使向所述处理容器内供给的气体等离子体化的等离子体源，其特征在于，具备：

生成微波的微波生成机构；和

将生成的微波供给到所述处理容器内的微波供给部，

所述微波供给部具有：将微波导入所述处理容器内的多个微波导入机构；对分别向所述多个微波导入机构输入的微波的相位进行调整的多个相位器，

通过所述多个相位器对输入所述多个微波导入机构的微波的相位进行调整，使得关于多个微波导入机构中邻接的微波导入机构，固定一个的微波的输入相位使另一个的微波的输入相位按照周期性波形变化，或者使邻接的微波导入机构的双方的微波的输入相位按照相互不重叠的周期性波形变化。

2.如权利要求1所述的微波等离子体源，其特征在于：

所述周期性波形可以是正弦波、三角波、梯形波和正弦波状波形中的任一个。

3.如权利要求1或者2所述的微波等离子体源，其特征在于：

还具有构成所述处理容器的上壁、并使从所述多个微波导入机构辐射的微波透过的顶板，所述顶板具有在与所述多个微波导入机构对应的位置设置的多个电介质部件和支承电介质部件的金属制的框体，所述框体具有蜂巢状结构。

4.如权利要求3所述的微波等离子体源，其特征在于：

所述框体具有气体流路和多个气体喷出孔，能将等离子体处理所需要的气体从所述气体喷出孔向所述处理容器喷出。

5.一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：

收容被处理基板的处理容器；

在所述处理容器内载置被处理基板的载置台；

向所述处理容器内供给气体的气体供给机构；和

权利要求1～4中任一项所述的微波等离子体源，

由从所述微波等离子体源向所述处理容器内导入的微波产生等离子体，通过该等离子体对被处理基板实施处理。