[发明专利]用于干涉式调制器阵列的导电总线结构

说明书

分案申请的相关信息

本申请为发明名称为“用于干涉式调制器阵列的导电总线结构”的原中国发明专利申请的分案申请。原申请的申请号为200510103445.3；原申请的申请日为2005年9月15日；原发明专利申请案的优先权日为2004年9月27日。

技术领域

本发明的技术领域涉及微机电系统(MEMS)，且更具体而言，涉及用于MEMS元件阵列的电连接架构。

背景技术

微机电系统(MEMS)包括微机械元件、激励器及电子元件。微机械元件可采用沉积、蚀刻或其它可蚀刻掉衬底及/或所沉积材料层的若干部分或可添加若干层以形成电和机电装置的微机械加工工艺制成。一种类型的MEMS装置被称为干涉式调制器。干涉式调制器可包含一对导电板，其中之一或二者可部分地透明且在施加一个适当的电信号时能够相对运动。其中一个板可包含一沉积在一衬底上的静止层，另一个板可包含一悬挂在该静止层上的金属隔板。

在某些显示器配置中，使用可独立激励的干涉式光调制器构成的阵列作为显示元件。所述光调制器经电连接以提供用于单独激励各个光调制器的控制电压或信号。

发明内容

本发明的系统、方法及装置均具有多个方面，任一单个方面均不能单独决定其所期望特性。现在，对其更主要的特性进行简要论述，此并不限定本发明的范围。在查看这一论述，尤其是在阅读了标题为“具体实施方式”的部分之后，人们即可理解本发明的特征如何提供优于其它显示装置的优点。

在某些实施例中，一种光调制器包含一衬底、位于所述衬底上的一第一电极层、及位于所述衬底上的一第二电极层。所述光调制器进一步包含基本上平行于所述第一电极层且耦接至所述第二电极层的一反射性表面。所述反射性表面可沿一基本上垂直于所述反射性表面的方向在一第一位置和一第二位置之间移动。所述第一位置距所述第一电极层一第一距离，且所述第二位置距所述第一电极层一第二距离。所述光调制器进一步包含一导电总线层，所述导电总线层的至少一部分电耦接至所述第一电极层与所述第二电极层中至少之一。所述反射性表面响应施加在所述导电总线层上的电压而在所述第一位置与所述第二位置之间移动。

在某些实施例中，使用一种方法来控制一光调制器。所述方法包括提供一衬底及在所述衬底上提供一第一电极层。所述方法进一步包括在所述衬底上提供一第二电极层，及提供基本上平行于所述第一电极层并耦接至所述第二电极层的一反射性表面。所述反射性表面可沿一基本上垂直于所述反射性表面的方向在一第一位置和一第二位置之间移动。所述第一位置距所述第一电极层一第一距离，且所述第二位置距所述第一电极层一第二距离。所述方法进一步包括向一导电总线层施加一电压，其中所述导电总线层的至少一部分电耦接至所述第一电极层与所述第二电极层中至少之一。所述方法进一步包括响应施加的电压而在所述第一位置与所述第二位置之间移动所述反射性表面。

在某些实施例中，一种装置包含用于支撑一干涉式调制器的构件。所述装置进一步包含位于所述支撑构件上方用于传导一第一电信号的构件。所述装置进一步包含位于所述支撑构件上方用于传导一第二电信号的构件。所述装置进一步包含用于反射光的构件，所述用于反射光的构件基本上平行于所述用于传导所述第一电信号的构件且耦接至所述用于传导所述第二电信号的构件，所述用于反射光的构件可沿一基本上垂直于所述用于反射光的构件的方向移动，并可在一第一位置与一第二位置之间移动，所述第一位置距所述用于传导所述第一电信号的构件一第一距离，所述第二位置距所述用于传导所述第一电信号的构件一第二距离。所述装置进一步包含用于电耦接至所述用于传导所述第一电信号的构件及所述用于传导所述第二电信号的构件中至少之一的构件，其中所述用于反射光的构件响应施加在所述用于进行电耦接的构件上的电压而在所述第一位置与所述第二位置之间移动。

附图说明

图1为一等轴图，其显示一干涉式调制器显示器的一实施例的一部分，其中一第一干涉式调制器的一可移动反射层处于一释放位置，且一第二干涉式调制器的一可移动反射层处于一受激励位置。

图2为一系统方块图，其显示一包含一3×3干涉式调制器显示器的电子装置的一实施例。

图3为图1所示干涉式调制器的一实例性实施例的可移动镜位置与所施加电压的关系图。

图4为一组可用于驱动干涉式调制器显示器的行和列电压的示意图。

图5A及图5B显示可用于向图3所示3×3干涉式调制器显示器写入一显示数据帧的行和列信号的一实例性时序图。

图6A为一图1所示装置的剖面图。