[发明专利]一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法，其特征在于，所述一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法，包括以下步骤：

a. 选钢材作为基体，基体表面经砂纸研磨并抛光后，分别用丙酮、酒精和去离子水超声波清洗，烘干后装入真空室准备镀膜；

b. 镀膜设备选用反应磁控共溅射镀膜系统，纯金属钛靶、纯金属铝靶和纯金属镍靶同时对准上方中心处的基体，沉积多层薄膜前先将真空室抽真空，然后通入高纯氩气，在基体上沉积一层金属钛层，其沉积工艺条件为：钛靶功率40~150瓦，基体负偏压0~200伏，靶材与基体的距离6~12厘米，工作气压0.2~1.0帕，基体温度为室温~600摄氏度，基体自转速度为5~30 转每分钟；

c. 通过计算机精确控制靶材上挡板的打开时间进行交替沉积TiN/AlN/Ni纳米多层薄膜，其工艺条件为：钛靶功率40~150瓦，铝靶功率100~300瓦，镍靶功率40~100瓦；基体负偏压0~200伏，氮气分压3×10^-3~1.1×10^-1帕，靶材与基体的距离6~12厘米，工作气压0.1~1.0帕，基体温度为室温~600摄氏度，调制比为1~10:1~3:1~3，调制周期为4~30纳米，基体自转速度为5~30转每分钟；

d. 镀膜结束后样品随炉冷却至室温即可。

2. 根据权利要求1所述的一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法，其特征在于，所述的基体表面经砂纸研磨并抛光至1.0微米再分别用丙酮、酒精和去离子水超声波清洗15分钟。

3. 根据权利要求1所述的一种氮化钛/氮化铝/镍纳米多层薄膜的制备方法，其特征在于，所述的沉积多层薄膜前先将真空室抽真空至6.0×10^-4帕，然后通入高纯氩气，在基体上沉积一层厚度为20~50纳米的金属钛层。