[发明专利]利用等离子的硅烷气体去除装置无效
申请号: | 201110325850.5 | 申请日: | 2011-10-21 |
公开(公告)号: | CN103055671A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 严桓燮 | 申请(专利权)人: | 严桓燮 |
主分类号: | B01D53/76 | 分类号: | B01D53/76;B01D53/46 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰;李欣 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 等离子 硅烷 气体 去除 装置 | ||
技术领域
本发明涉及利用等离子的硅烷气体去除技术。
背景技术
硅烷气体为通常用于在半导体产业或太阳能电池产业等实施的化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition)的气体。若硅烷气体排出至大气中,则会引发环境污染及爆炸事故等,因此,需在排出至大气之前完全去除。
当前常用的硅烷气体去除方法为利用LNG燃烧器或电炉的焚烧法。但是,当前所使用的LNG燃烧器或电炉因焚烧温度低而难以完全燃烧硅烷气体。另外,在未完全焚烧的残渣在排出至外部的过程中会黏着于排出管道(Duct),从而妨碍排出气体通畅地排出,而且,在焚烧过程中会消耗大量的LNG或电。
因此,需要研发出利用高温有效分解硅烷气体的方法。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术之不足而提供一种利用等离子有效分解硅烷气体的装置。
为了达到上述目的,本发明一实施例的硅烷气体去除装置,包括:电磁波供应部,振荡产生预设频率的电磁波;放电管,从上述电磁波供应部所供应的上述电磁波及涡流气体产生等离子;涡流气体供应部,向上述放电管供应上述涡流气体;反应炉,通过上述放电管所产生的上述等离子及硅烷气体的反应生成二氧化硅及水;点火部,向上述放电管内供应用以产生上述等离子的初始电子;硅烷气体供应部,位于上述反应炉的上端并向上述反应炉内部的上述等离子供应上述硅烷气体;以及,气体排出部,排出上述反应炉中所生成的上述二氧化硅及水。
根据本发明,可利用等离子在短时间内几乎完美地分解硅烷气体,从而提高硅烷气体的分解效率。
另外,根据本发明,硅烷气体不会分解成H2SiO2或SiH3O2等不稳定化合物,而是分解成二氧化硅及水等稳定的单分子化合物,从而容易处理硅烷气体分解后的残渣。
附图说明
图1为本发明一实施例的硅烷气体去除装置100的框图;
图2为本发明一实施例的硅烷气体去除装置100的导波管126及放电管104的连接部的垂直剖面图;
图3为用以说明本发明一实施例的反应炉及硅烷气体供应管的连接状态的反应炉水平剖面图;
图4为用以说明本发明一实施例的反应炉及硅烷气体供应管的连接状态的反应炉垂直剖面图。
附图标记说明
100:硅烷气体去除装置 102:电磁波供应部
104:放电管 106:涡流气体供应部
106a:涡流气体供应管 108:反应炉
110:点火部 110a:点火电极
112:硅烷气体供应部 112a:硅烷气体供应管
114:气体排出部 116:电源供应部
118:磁电管 120:循环器
122:定向耦合器 124:残段调谐器
126:导波管
具体实施方式
下面,结合附图对本发明具体实施方式进行详细说明。但这仅仅是示例性的,而非限制本发明。
在说明本发明的过程中,若认为关于与本发明相关的相关已公知技术的具体说明有可能给本发明的重点造成混乱,则将省略这些说明。另外,将要后述的术语是基于本发明中的功能而定义的,而这有可能根据不同的使用者、应用者的意图或惯例而不同。因此,其定义需以本发明的整个内容为基础。
本发明的技术思想由权利要求决定,而下面的实施例仅用于帮助本领域技术人员更好地理解本发明的技术思想。
图1为本发明一实施例的硅烷气体去除装置100框图。如图所示,本发明一实施例的硅烷气体去除装置100,包括:电磁波供应部102、放电管104、涡流气体供应部106、反应炉108、点火部110、硅烷气体供应部112及气体排出部114。
电磁波供应部102为了产生等离子而振荡产生预设频率的电磁波。具体而言,电磁波供应部102,包括:电源供应部116、磁电管118、循环器120、定向耦合器122、残段调谐器124及导波管126。
电源供应部116供应硅烷气体去除装置100的驱动所需的电力。
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