[发明专利]化妆品中铅、砷、汞的快速筛查方法无效

专利信息
申请号: 201110327558.7 申请日: 2011-10-25
公开(公告)号: CN102507711A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 方继辉;刘亚雄 申请(专利权)人: 广东省药品检验所
主分类号: G01N27/48 分类号: G01N27/48;G01N27/30
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 谭英强
地址: 510180 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 化妆品 快速 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于化妆品检测领域,涉及化妆品中铅、砷、汞的快速筛查方法。

背景技术

当前,重金属引起的危害已经在全社会得到关注,尤其是近年来发生的由于重金属引起的中毒和危害事件,大大提高了人们对重金属危害的认识。重金属含量作为一个重要的质量控制指标在化妆品行业也要求严格控制。化妆品作为人们经常使用的日用品,其安全性与人们的健康息息相关,化妆品会长时间停留在皮肤、面部、毛发等部位,日积月累,如果化妆品中含有重金属量超过一定水平将对人体的健康会产生严重危害。如重金属铅中毒会损害神经系统、消化系统和造血系统,还能引起严重的肾损害。汞在人体组织中蓄积,人体长期接触汞会导致中枢神经系统损伤,并使肾脏受到严重损害。砷能使中枢神经发生功能紊乱并引起实质性脏器的损害,还具有致癌作用。

但是,由于重金属具有在短期内使黑色素减退,令皮肤美白、光泽透明、毛孔变细、斑痘消退等功能,一些不法企业(商家)利用消费者期待见效快的心理,为牟取经济利益而在化妆品里暗中恶意添加重金属等禁用物质,给消费者的身心健康造成了极大的伤害,也成为危及人类健康的公共问题。

化妆品中重金属超标对人体影响很大,《化妆品卫生规范》(2007年版)对化妆品中铅、砷、汞的含量有着极其严格的规定,其含量分别不得超过40、10、1 ppm。但目前国家和行业标准对重金属的检测主要集中在高端贵重精密仪器检测方面,快筛快检技术手段的匮乏,监督主要是事后监督,导致收效甚微。 

电化学方法,尤其是溶出伏安,由于其具有使用费用低,易于操作,选择性好,灵敏度高等优点,被广泛用于金属离子的痕量分析。溶出伏安法同时检测多种重金属中使用的经典工作电极是滴汞电极和汞膜电极。但是由于汞有毒,会对环境和人体造成危害,从而限制了其实际应用。

很多科学工作者已经致力于研究一种无汞的固体工作电极例如金、银、玻碳、金刚石等电极来代替传统的汞电极用于重金属的溶出伏安分析。但是,对于大多数固体电极而言,在溶出伏安分析中最突出的问题就是样品中的大分子物质例如蛋白质和表面活性剂等在电极表面的吸附。吸附的有机层会严重阻碍电极表面的电子传输过程,从而使电极的活性降低,检测的准确性和重现性下降。在复杂的样品(如化妆品)中这种问题尤为突出。因此,为了除去可能存在的污染物,必须对样品进行预处理(例如湿法消解),但是这个过程通常复杂而耗时,并可能对终测定结果有影响。

发明内容

本发明的目的在于提供化妆品中铅、砷、汞的快速筛查方法。

本发明所采取的技术方案是:

化妆品中铅、砷、汞的快速筛查方法,包括同时快速筛查铅、汞的方法,步骤如下:

1)  取待检化妆品溶于HCl溶液中,得样品溶液;

2)  以化学修饰电极为工作电极,Ag/AgCl电极为参比电极,对样品溶液进行溶出伏安法检测,记录数据;

3)  根据样品溶液的铅、汞的峰电位和峰电流,判断待检化妆品中铅或汞是否超标。

化妆品中铅、砷、汞的快速筛查方法,包括同时快速筛查砷、汞的方法,步骤如下: 

1)  取待检化妆品溶于HCl溶液中,得样品溶液;

2)  以化学修饰电极为工作电极,Ag/AgCl电极为参比电极,对样品溶液进行溶出伏安法检测,记录数据;

3)  根据样品溶液的砷、汞的峰电位和峰电流,判断待检化妆品中砷或汞是否超标。

优选的,同时快速筛查铅、汞的方法中,溶出伏安法采用的参数为:扫描电压为-0.4~+0.65 V,沉积电压为-0.4 V,沉积时间为120 s。

优选的,同时快速筛查砷、汞的方法中,溶出伏安法采用的参数为:扫描电压为-0.2~+0.65 V,沉积电压为-0.6 V,沉积时间为60s。

优选的,化学修饰电极为巯基乙磺酸钠修饰金电极。

优选的,HCl溶液含有1 M HCl。

优选的,待检化妆品的质量与HCl溶液的体积比为1:100。

优选的,巯基乙磺酸钠修饰金电极的制备,步骤如下:

1)  将金电极抛光,清洗后,在0.5 M H2SO4溶液中进行循环伏安扫描直至信号稳定;

2)  将步骤1)所得金电极置于巯基乙磺酸钠修饰液中浸泡20~60 min,然后清洗金电极,得巯基乙磺酸钠修饰金电极。

优选的,金电极直径为2 mm。

优选的,巯基乙磺酸钠修饰液含有2.5 mM巯基乙磺酸钠和0.1 M高氯酸。

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