[发明专利]光学元件超光滑表面的抛光装置

权利要求书

1.一种对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：所述抛光装置包括剪切射流抛光盘(1)、数控机床(2)、工件装夹平台(4)、浴法射流抛光平台(5)、抛光头控制装置(6)、射流抛光系统(7)和液体管路(8)，其中：剪切射流抛光盘(1)通过抛光头控制装置(6)固定在数控机床(2)上，通过液体管路(8)与射流抛光系统(7)连接，浴法射流抛光平台(5)安装在数控机床(2)上，通过液体管路(8)与射流抛光系统(7)连接，用于回收和循环抛光液，工件装夹平台(4)安装在浴法射流抛光平台(5)里，待抛光工件(3)通过工件装夹平台(4)固定在数控机床(2)上；通过射流抛光系统(7)的增压系统对混有磨料粒子的抛光液加速从剪切射流抛光盘(1)射出，在与剪切射流抛光盘下端面紧贴的光学元件表面产生剪切射流，通过射流的剪切作用力，对光学元件的超光滑表面抛光；从设有容器壁的工件装夹平台(4)中溢出抛光液并流到浴法射流抛光平台(5)上；然后经浴法射流抛光平台(5)底部的出水口通过液体管路(8)回收射流抛光系统中，进行抛光液的循环抛光。

2.根据权利要求1所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：剪切射流抛光盘(1)下端面设有若干个半圆柱槽，每个槽里端有一个直径为Φ0.5mm-2mm的喷嘴，抛光液从喷嘴喷出，经半圆柱槽从待抛光工件(3)壁面流出。

3.根据权利要求2所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：在剪切射流抛光盘(1)没有半圆柱槽的下端面粘贴一层无纺布，无纺布的厚度为0.5mm-1mm；无纺布与待抛光工件(3)紧贴并进行抛光。

4.根据权利要求1所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：在抛光过程中，待抛光工件(3)和剪切射流抛光盘(1)是浸没在抛光液中抛光。

5.根据权利要求1所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：在抛光过程中，待抛光工件(3)在工件装夹平台(4)上绕中心轴旋转，旋转速度为0-720转/分钟。

6.根据权利要求1所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：抛光过程中，剪切射流抛光盘(1)通过抛光头控制装置(6)的控制绕中心轴旋转，旋转速度为0-720转/分钟，旋转方向与待抛光工件(3)的旋转方向相反。

7.根据权利要求1所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：抛光过程中，抛光液通过射流抛光系统(7)的回收装置进行循环利用。

8.根据权利要求1所述的对光学元件超光滑表面抛光的装置，其特征在于：剪切射流抛光盘(1)的口径大小为待抛光工件口径大小的1/5至4/5倍。