[发明专利]动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统

权利要求书

1.动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法，其特征是：

利用光刻或电子束刻在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板(6)，所述纳米尺寸光栅图形在模板(6)的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；

将柔性聚合物基底(18)设置为可连续前行的传送带，所述传送带在传送过程中首先经过设置在固定位置上的模板(6)的下方，并由模板(6)上带有光栅线槽的棱边在柔性聚合物基底(18)表面刮印形成沿传送带传送方向上的纳米线槽图形；连续前行的柔性聚合物基底(18)随后进入真空室(12)内，在所述真空室(12)中通过等离子体聚合法在所述柔性聚合物基底(18)上成膜，所述成膜是由两种混合气体在辉光放电的情况下电离成离子并反应，反应的生成物分别沉积在光栅线槽的底部、侧壁，并通过生成物的沉积使线槽顶面封闭，形成位于线槽内的、密封的纳米通道(19)。

2.一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统，其特征是：

设置具有纳米尺寸光栅图形的模板(6)，所述纳米尺寸光栅图形在模板(6)的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；

以柔性聚合物基底(18)为传送带，由底部托辊支承构成传送带的连续传送系统，沿所述传送带的传送方向依次设置刮印单元和等离子体聚合单元；所述刮印单元是将所述模板(6)设置在传送带的上方，模板(6)的上表面前沿棱边垂直于传送带行进方向，并于柔性聚合物基底(18)的表面相接触；

所述等离子体聚合单元具有一用来实现等离子体聚合的真空室(12)，作为传送带的柔性聚合物基底(18)在经刮印单元之后进入所述真空室(12)完成等离子体聚合反应。

3.根据权利要求2所述的动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统，其特征是所述模板(6)固定在能够调节倾斜角度的角位移台(5)上，在所述模板(6)上覆贴加热片(6a)。

4.根据权利要求2所述的动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统，其特征是在所述连续传送系统的前端设置起始辊(3)，末端设置收集辊(17)，柔性聚合物基底(18)在所述起始辊(3)上放卷，依次经过所述刮印单元和等离子体聚合单元后，在所述收集辊(17)上收卷。

5.根据权利要求4所述的动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统，其特征是在所述连续传送系统的前端设置涂胶机构，所述涂胶机构包括紫外固化胶的储胶容器(1)和涂胶辊(2)，所述涂胶辊(2)与起始辊(3)构成对辊结构；在所述起始辊(3)与刮印单元之间设置一加热源(4)；在刮印单元与真空室(12)之间设置紫外光源(8)。