[发明专利]以氢氟烷烃为抛射剂的布地奈德气雾剂制剂

权利要求书

1.一种布地奈德气雾剂，其包括：

布地奈德及其生理上可接受的盐和溶剂化物的微粉化粒状药物；

氢氟烷烃抛射剂；

基本不含有极性高于抛射剂极性的共溶剂；

以及，任选地，含有表面活性剂。

2.如权利要求1所述的气雾剂，其中，所述微粉化粒状药物占所述气 雾剂的0.01-5％W/W；优选的为0.01-3％w/w。

3.如权利要求1所述的气雾剂，其中，90％W/W的所述粒状药物的 直径小于5μm，50％W/W的所述粒状药物的直径小于3μm；优选地，粒 状药物由气流粉碎制得。

4.如权利要求1所述的气雾剂，其中，所述抛射剂为1，1，1，2-四 氟乙烷或1，1，1，2，3，3，3-七氟正丙烷或其混合物。

5.一种布地奈德气雾剂，是由下列组份制备而成：

占所述气雾剂的0.01-5％W/W的布地奈德及其生理上可接受的盐和 溶剂化物的微粉化粒状药物；优选的为0.01-3％w/w；

以及氢氟烷烃抛射剂。

6.一种布地奈德气雾剂，是由下列组份制备而成：

占所述气雾剂的0.01-5％W/W的布地奈德及其生理上可接受的盐和 溶剂化物的微粉化粒状药物；优选的为0.01-3％w/w；

氢氟烷烃抛射剂；

以及不大于制剂1％W/W的表面活性剂。

7.一种布地奈德气雾剂，是由下列组份制备而成：

占所述气雾剂的0.01-5％W/W的布地奈德及其生理上可接受的盐和 溶剂化物的微粉化粒状药物；优选的为0.01-3％w/w；

氢氟烷烃抛射剂；

以及不大于抛射剂0.5％W/W的极性高于抛射剂极性的共溶剂。

8.一种布地奈德气雾剂，是由下列组份制备而成：

占所述气雾剂的0.01-5％W/W的布地奈德及其生理上可接受的盐和 溶剂化物的微粉化粒状药物；优选的为0.01-3％w/w；

氢氟烷烃抛射剂；

不大于制剂1％W/W的表面活性剂；

以及不大于抛射剂0.5％W/W的极性高于抛射剂极性的共溶剂气雾 剂。

9.用于如权利要求1-8中任一项所述的气雾剂的气雾剂罐，其包括能 够承受所述气雾剂的蒸汽压的容器，该容器带有计量阀喷口，该喷口的直 径为0.2-0.6mm，优选地为0.3-0.5mm。

10.如权利要求9所述的气雾剂罐，其中，所述容器的内表面具有涂 层或不具有涂层，优化的，所述涂层为氟涂层。