[发明专利]透明导电性薄膜及触摸面板有效

专利信息
申请号: 201110332529.X 申请日: 2011-10-25
公开(公告)号: CN102543267A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 中岛一裕;梨木智刚;菅原英男 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;B32B9/04;B32B27/00;G06F3/041
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 透明 导电性 薄膜 触摸 面板
【说明书】:

技术领域

本发明涉及在薄膜基材上经由电介质层设置有透明导电层的透明导电性薄膜及其制造方法。本发明的透明导电性薄膜适宜在触摸面板用途中使用。其中,特别适宜用于投影型静电容量方式的触摸面板、可多点输入的电阻膜方式的触摸面板(矩阵型的电阻膜方式触摸面板)这样的具备图案化为规定形状的透明导电层的触摸面板。本发明还涉及具备该透明导电性薄膜的触摸面板。

背景技术

近年来,投影型静电容量方式的触摸面板、矩阵型的电阻膜方式触摸面板可以进行多点输入(多点触摸),因此,操作性优异,其需求迅速提高。这些触摸面板使用在透明薄膜基材上经由2个电介质层具有图案化的透明导电层的透明导电性薄膜。对于这样的透明导电性薄膜而言,形成有透明导电层的部分(图案部)和未形成透明导电层的部分(图案开口部)在图案的可视性上产生差异,有时能从外部清楚地看到图案。随着触摸面板的高品质化,要求减小上述可视性的差异。

从抑制由于这样的透明导电层的有无引起的可视性的差异的观点考虑,提出了以下方案,即,在薄膜基材与透明导电层之间设置多层电介质层,并将电介质层的折射率等调整在规定范围(例如专利文献1~3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-15861号公报

专利文献2:日本特开2008-98169号公报

专利文献3:日本特许第4364938号说明书

发明内容

发明要解决的问题

本申请发明人等实际制作了如上述专利文献1~3所公开的透明导电性薄膜并进行了评价,结果判明,图案部与图案开口部的可视性仍然存在差异。鉴于该观点,本发明的目的在于,提供在将透明导电层图案化了的情况下也可以抑制图案部和图案开口部的可视性差异的透明导电性薄膜及其制造方法。另外,本发明的目的还在于,提供具备该透明导电性薄膜的触摸面板。

用于解决问题的方案

本申请发明人等为了解决上述课题进行了深入研究,结果发现,通过采用下述构成,可以达成上述目的,从而完成了本发明。

本发明的透明导电性薄膜100在透明薄膜基材1上依次具备第1电介质层21,第2电介质层22、及透明导电层3。第1电介质层的厚度d21比第2电介质层的厚度d22大。第1电介质层的厚度d21优选为8~40nm,第2电介质层的厚度d22优选为3~25nm。第1电介质层的厚度d21与第2电介质层的厚度d22之差d21-d22优选为3~30nm。

本发明的一实施方式中,第1电介质层21优选通过湿式涂布形成。另外,第2电介质层21也优选通过湿式涂布形成。

本发明的优选的实施方式中,第1电介质层22的折射率大于第2电介质层的折射率。更优选透明薄膜基材1的折射率n1、第1电介质层21的折射率n21、第2电介质层22的折射率n22、及透明导电层3的折射率n3满足n22<n21<n1<n3的关系。

第1电介质层21的折射率n21优选为1.5~1.7。第2电介质层22的折射率n22优选为1.4~1.5。透明导电层的折射率n3与第2电介质层的折射率n22之差(n3-n22)优选为0.1以上。需要说明的是,本说明书中,只要没有特别说明,折射率表示波长589.3nm(钠D线)处的测定值。

本发明的一实施方式中,透明导电性薄膜100图案化为在第2电介质层22上具有透明导电层3的图案部P和不具有透明导电层的图案开口部。在该方式中,第2电介质层22也优选和透明导电层3同样地进行了图案化。

本发明的一实施方式中,将透明导电层3图案化了的情况下,对图案部照射白色光时的反射光与对图案开口部的正下方照射白色光时的反射光的反射率差ΔR优选为1%以下。另外,图案部的反射光与图案开口部的正下方的反射光的色差ΔE优选为6.7以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110332529.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top