[发明专利]使用强制超薄膜旋转式处理法的微粒的制造方法有效

专利信息
申请号: 201110332896.X 申请日: 2008-07-04
公开(公告)号: CN102516809A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 榎村真一 申请(专利权)人: M技术株式会社
主分类号: C09B67/00 分类号: C09B67/00;B01F7/00;B01J19/18
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 使用 强制 薄膜 旋转 处理 微粒 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种微粒的制造方法,其特征在于,通过在可接近·分离地相对旋转的2个处理用面间维持1mm以下的微小间隔、将以该微小间隔维持的2个处理用面间作为被处理流动体的流路,形成被处理流动体的强制薄膜,在该强制薄膜中进行微粒的析出。

2.一种微粒的制造方法,其特征在于,在可接近·分离地相对位移的2个处理用面之间供给多种被处理流动体,通过包含该流动体的供给压和在进行旋转的处理用面之间施加的压力的向接近方向的力与向分离方向的力的压力的平衡,将处理用面间的距离维持为微小间隔,将以该微小间隔维持的2个处理用面间作为所述的被处理流动体的流路,由此形成被处理流动体的强制薄膜,在该强制薄膜中进行微粒的析出。

3.如权利要求1或2所述的微粒的制造方法,其特征在于,包括多种流动体的被处理流动体,在所述的2个处理用面间的所述强制薄膜内以被搅拌、混合了的状态进行微粒的析出。

4.如权利要求1至3中的任一项所述的微粒的制造方法,其特征在于,得到的微粒的粒度分布中的体积平均粒径为1nm~200nm。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的微粒的制造方法,其特征在于,含有析出后的微粒的被处理流动体,在所述的2个处理用面间的所述强制薄膜内进一步被搅拌后,从处理用面间被排出。

6.如权利要求2所述的微粒的制造方法,其特征在于,

使用如下的强制超薄膜旋转式处理装置:具备对被处理流动体赋予压力的流体压赋予机构、第1处理用部及可相对于该第1处理用部相对地接近·分离的第2处理用部的至少2个处理用部、使所述第1处理用部和第2处理用部相对地进行旋转的旋转驱动机构,在所述的各处理用部中相互对向的位置上设置有第1处理用面及第2处理用面的至少2个处理用面,所述的各处理用面构成赋予了所述压力的被处理流动体流过的、被密封的流路的一部分;

在所述的两处理用面间将2种以上的被处理流动体均匀混合、进行析出,

所述第1处理用部和第2处理用部中、至少第2处理用部具备受压面,且该受压面的至少一部分由所述的第2处理用面构成,

该受压面,受到所述的流体压赋予机构赋予被处理流动体的压力而产生使第2处理用面从第1处理用面分离的方向移动的力,

通过在可接近·分离、且相对地进行旋转的第1处理用面和第2处理用面之间通入所述的2种以上的被处理流动体,该被处理流动体一边形成规定膜厚的薄膜流体一边通过两处理用面间,在所述的2个处理用面间的所述强制薄膜内以被搅拌、混合了的状态进行微粒的析出。

7.如权利要求1至6中的任一项所述的微粒的制造方法,其特征在于,所述的多种流动体的任一种,不含有比得到的微粒还大的粒子。

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