[发明专利]下降式植绒机负极网板无效
申请号: | 201110337338.2 | 申请日: | 2011-10-31 |
公开(公告)号: | CN102430491A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 温振祥 | 申请(专利权)人: | 常熟新诚鑫织造有限公司 |
主分类号: | B05B5/08 | 分类号: | B05B5/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 下降 式植绒机 负极 | ||
所属技术领域
本发明涉及一种静电植绒领域的下降式植绒机,特别地,是涉及静电植绒机料斗下方的负极网板。
背景技术
静电植绒因其绒面、刺绣感的独特装饰效果以及工艺简单、成本低、适应性强的特点,广泛受到人们的青睐,其应用日益广泛。近年来,我国开发了多种静电植绒产品。静电植绒的应用面很广,例如采用植绒联合机可加工不同底布、不同档次的纺织品面料等。用各色绒毛制成的彩色绒纸,可用于美术装潢、展板、橱窗、商标等。各种设计画面的工艺画风格别具一格。
静电植绒是利用电荷同性相斥异性相吸的物理特性 , 使绒毛带上负电荷 , 使被植绒物体接异性电位 , 绒毛受到被植绒物体异性电位的吸引 , 呈垂直状加速飞升到被植绒物体表面上 , 由于被植绒物体涂有胶粘剂 , 绒毛就被垂直粘在被植绒物体上 , 因此静电植绒是利用电荷的自然特性产生的一种生产新工艺
在实现上述静电植绒的过程中,目前普遍采用下降式植绒方式,即采用下降式植绒机进行植绒,其大致原理是,静电植绒机工作台上设有导电平板,其上设有被植绒面料,该导电平板上方设有连通进绒管的料斗,料斗下方蒙有与所述导电平板正对的金属网板,所述金属网板与导电平板接高压直流电源的两极;通常地,所述金属网板接负极,而所述导电平板接正极,从料斗内下落的绒毛在经过所述金属网板时,将带上负电荷,并在金属网板和导电平板之间的电场作用下垂直飞向导电平板,并植于网印有图文信息的涂胶面料上,再经加热加热、固化、染色工艺,即可完成整个静电植绒工艺。
为了使绒毛可以更为精确稳定地垂直飞向被植绒面料,在绒毛经过金属网板时,需尽量使其带上大量的静电荷,而目前的金属网板在此方面效果并不理想。
发明内容
为了解决上述问题,本发明的目的在于提供一种下降式植绒机负极网板,该负极网板可使绒毛通过路径的局部产生大量电荷集聚,从而使绒毛带上大量电荷,以便于更为精确稳定地飞向被植绒面料,获得优越的植绒效果。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:该下降式植绒机负极网板包括由密布网格构成的金属网板,所述金属网板下方均匀密布与该金属网板固定连接的金属针刺。
作为优选,所述金属网板由金属丝交织而成,且各金属丝在交织点处相互熔接,且熔接口的表面尖锐,这不仅提高了金属网板的强度,并且可提高熔接口处的电荷集聚效应。
作为优选,所述金属针刺从所述金属网板的金属丝交织点处向下延伸,以便于焊接。
作为优选,所述金属针刺的长度为3mm-6mm,在此长度范围内,既节约材料,又可以产生较佳的静电集聚效应。
本发明的有益效果在于:该下降式植绒机负极网板在接上高压电极后,依据静电荷的尖端集聚原理,将在金属尖刺的尖端集聚大量负电荷,因此当绒毛穿过该网板时,即可带上大量电荷,以便于更为精确稳定地飞向被植绒面料,获得优越的植绒效果。
附图说明
图1是普通下降式植绒机料斗部分的结构示意图。
图2是本下降式植绒机负极网板的结构图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:
如图1所示,普通下降式植绒机的料斗1上端连接进绒管道2,下方蒙有金属网板11,绒毛3通过所述进绒管道2流入料斗1,并从料斗1向下穿过金属网板11,飞向被植绒面料(未图示)。
在本发明中,对图1中的金属网板11进行了改进,形成的下降式植绒机负极网板如图2所示,包括由密布网格构成的金属网板11,所述金属网板11下方均匀密布与该金属网板11固定连接的金属针刺110。
该下降式植绒机负极网板,所述金属网板11由金属丝交织而成,且各金属丝在交织点处相互熔接,且熔接口的表面尖锐,这不仅提高了金属网板11的强度,并且可提高熔接口处的电荷集聚效应;所述的熔接可以为焊接。
上述下降式植绒机负极网板,所述金属针刺110从所述金属网板11的金属丝交织点处向下延伸,以便于焊接;所述金属针刺110的长度为3mm-6mm,在此长度范围内,既节约材料,又可以产生较佳的静电集聚效应。
上述下降式植绒机负极网板在接上高压电极后,依据静电荷的尖端集聚原理,将在金属尖刺110的尖端集聚大量负电荷,因此当绒毛穿过该网板时,即可带上大量电荷,以便于更为精确稳定地飞向被植绒面料,获得优越的植绒效果。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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