[发明专利]用于光刻系统的对准装置有效
| 申请号： | 201110338363.2 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN103092011A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 吴旭婷;徐荣伟;杜聚友;王诗华;蓝科 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 系统 对准 装置 | ||
1. 一种用于光刻系统的对准装置，包括：
照明模块，用于提供照射对准标记的光束；
光学装置，对对准标记各级次的衍射光进行光学处理；
探测模块，用于探测干涉像；
其特征在于，所述光学装置包括一偏转模块，所述偏转模块使所述各级次衍射光分别形成干涉像。
2.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述偏转模块包括多个对各级次衍射光发生偏转的反射面，所述反射面均与一棱镜一体成型。
3.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，所述反射面包括沿X方向排列的-3级次反射面、-2级次反射面、-1级次反射面、+1级次反射面、+2级次反射面以及+3级次反射面，和沿Y方向排列的-3级次反射面、-2级次反射面、-1级次反射面、+1级次反射面、+2级次反射面以及+3级次反射面。
4.如权利要求3所述的对准装置，其特征在于，所述同一方向的同一正负级次反射面的偏转角相同。
5.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，所述棱镜为等腰直角棱镜。
6.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，所述反射面上镀有高反膜。
7.如权利要求4所述的对准装置，其特征在于，所述干涉像面上各级次位置与反射面的偏转角的位置满足公式： ，其中为第N衍射级次的光在干涉像面上的成像距离，是对准后组透镜的焦距，为反射面的偏转角度。
8.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述光学装置还包括对准前组透镜和对准后组透镜。
9.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述照明模块用于提供红色激光和绿色激光。
10.如权利要求2所述的对准装置，其特征在于，所述偏转模块可由任何玻璃材料制成。
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