[发明专利]太阳能电池硅片清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种太阳能硅片的生产技术，特别是一种太阳能电池硅片清洗方法。

背景技术

太阳能是取之不尽用之不竭的清洁能源，人们很早利用太阳能，到太阳能电池的出现，对太阳能的使用更是上了一个新台阶。随着光伏行业的飞速发展，人们对其成本控制及产品质量的要求也越来越高。在太阳能电池的制造过程中，由于表面的污染物会直接影响到制绒的质量、效率、成品率、优质品率以及转化效率。所以硅片的清洗也越来越受到人们的重视。很多企业都在进行清洗方面工艺的改进。

硅片表面的污染物通常是以化学或物理吸附的方式存在于硅片的表面或其自身氧化膜中。清洗要求是在不损坏硅片的前提下去除各类杂质。一般的硅片清洗可分为物理清洗和化学清洗，化学清洗包括水溶性清洗和气相清洗等。由于前者价格便宜，方便操作，对杂质的选择性好又可以将杂质清洗至很低的水平等优势，在业界一直占主导地位。

现有技术中，大多采用水溶性清洗，其弊病之一就是经去离子水慢拉后不能彻底去除硅片表面水分，经热风干燥后会使部分硅片上部粘连在一起，部分硅片风干不彻底或有水纹；弊病之二是纯水慢拉要用循环水，这样的话水温就很难控制，设备制作也较复杂，若不用循环的话，水温比较受控，但水质容易变坏，从而污染硅片，导致不合格；弊病之三通常为了保证硅片能充分干燥，这一环节通常要设2-4个工位来热风干燥，使得这一生产周期变长。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述现有技术的不足而提供一种清洗过程简单、方便，清洗效果好，不会产生水迹并降低清洗能耗的太阳能电池硅片清洗方法。

为了实现上述目的，本发明所提供的太阳能电池硅片清洗方法，它包括清洗和干燥，其特征是所述的清洗是采用切水剂对太阳能硅片表面进行清洗，所述的切水剂由1，2-二甲氧基乙烷5至15份、正戊烷40至60份、正壬烷20至40份和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚5至15份组成。为了保证清洗效果，在清洗过程中，切水剂可置于带超声波清洗的清洗设备中，待清洗的硅片经过在所提供的切水剂中超声波清洗后，再经热风干燥即可。

本发明提供的切水剂，其密度比水轻，常温常压下约为水的0.7左右，跟水不溶，由于水的密度较本发明提供的切水剂大，湿硅片进入切水剂后，湿硅片上的水会迅速沉落，因两者互不相溶，故两者之间有一明显的分水层。另外这种切水剂有极强的渗透性，对硅片表面的残留物也有溶解和强力的清洗作用，并能缩短清洗时间，简化清洗设备及清洗工艺。

1.简化了清洗工艺，提高设备产能；

2.节约了清洗能耗；

3.使用切水剂的设备比使用IPA的设备相比成本少四分之一，比原热风干燥的清洗设备少五分之一。

本发明利用切水剂的切水、脱水特性，应用到太阳能电池行业的硅片清洗工序中，以达到优化清洗工艺，简化清洗设备、缩短硅片清洗时间、节约能耗降低成本的目的。结果表明：切水剂的使用可以达到预期效果，而且对硅片的清洁度的提高也很有好处。

采用本发明提供的切水剂清洗硅片，完全可以消除现有技术中的三大弊病，还能大大提高生产效率。并且不会对硅片表面产生不良影响；相比热风干燥式清洗机，使用切水剂后，硅片水纹问题得以解决，原来的硅片经热风干燥后多数残留水纹，即使返工重新也无明显效果。而使用本发明提供的切水剂后，硅片表面不再有水纹，且热风隧道长度也可以缩短一半。

具体实施方式

下面通过实施例对本发明进一步说明。

实施例：

本实施例提供的太阳能电池硅片清洗方法，它包括清洗和干燥，所述的清洗是采用切水剂对太阳能硅片表面进行清洗，所述的切水剂由1，2-二甲氧基乙烷5份、正戊烷40份、正壬烷20份和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚5份组成。将需清洗的硅片置于切水剂，经过常温10分钟后，输送至50度℃热风干燥即可。

实施例2：

本实施例提供的切水剂由1，2-二甲氧基乙烷15份、正戊烷60份、正壬烷40份和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚15份组成。切水剂置于带超声波清洗的清洗设备中，待清洗的硅片经过在所提供的切水剂中超声波清洗5分钟后，输送至50度℃热风干燥即可。

实施例3：

本实施例所述的切水剂由1，2-二甲氧基乙烷10份、正戊烷50份、正壬烷30份和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚10份组成。清洗及烘干过程如实施例2。