[发明专利]键盘装置有效

专利信息
申请号: 201110339316.X 申请日: 2011-11-01
公开(公告)号: CN102456338A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 星野晓久 申请(专利权)人: 卡西欧计算机株式会社
主分类号: G10C3/12 分类号: G10C3/12;G10B3/12;G10H1/34
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈萍
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 键盘 装置
【说明书】:

交叉申请的引用:本申请基于2010年11月1日提交的日本专利申请第2010-244895号并主张其优先权,通过援引包括该在先申请的全部内容。

技术领域

本发明涉及在电子钢琴、电子琴等键盘乐器中使用的键构造及键盘装置。

背景技术

以往,在电子钢琴等键盘装置中,如日本国特开平05-11747号公报所述,为了一次将多个键组装在键盘底架上,将多个键成形为一体。并且已知构成为,在各键的后端部分别形成在上下方向上弯曲的壁厚较薄的弯曲部,使该弯曲部与在键的排列方向上连续的连结部依次连结。

然而,在这样的以往的键盘装置中,由于弯曲部形成为薄壁,因此,在将多个键成形为一体时,有时会因其成形精度导致相邻的键间的间隙及键的排列变得不均匀。此外,在对键进行按键操作时,有时作为键的转动支点的弯曲部进行不稳定的弯曲动作。

例如,在对键进行按键操作而使弯曲部弯曲时,弯曲部除了在上下方向上弯曲之外,有时还会以在键的排列方向上倾斜的状态进行弯曲。在这样的情况下,键以在其排列方向上倾斜的状态在上下方向上转动,即所谓的侧滚(roling)动作。

因此,在这样的以往的键盘装置中,为了防止因将多个键成形为一体时的成形精度而使得键间的间隙及键的排列变得不均匀,或者在按键时键进行侧滚动作等不稳定的动作,而需要在键盘底架上设置键引导部,该键引导部在上下方向上对键进行引导。但是,若这样设置键引导部,则会产生如下问题:部件件数增多,并且构造变得复杂,组装作业变得繁琐,不但如此,制造成本也变高。

本发明所要解决的技术问题是,提供一种键构造及键盘装置,不使用键引导件,而能够将键间的间隙及键的排列维持为均匀,并且能够使键在上下方向上以稳定的状态良好地转动。

发明内容

根据本发明的一个概念,一种键构造,其中,具备:并列排列的多个键主体;多个转动轴部,设置于该多个键主体各自的后端部,成为所述多个键主体在上下方向上的转动支点;以及连结部,将该多个转动轴部分别以能够转动的状态沿着所述键主体的排列方向连结。

此外,一种键盘装置,其中,具备:键盘底架;多个键主体,在所述键盘底架上并列排列;多个转动轴部,设置于该多个键主体各自的后端部,成为所述多个键主体在上下方向上的转动支点;连结部,通过在上下方向上弯曲的弯曲部将该多个转动轴部分别沿着所述键主体的排列方向连结;以及键支撑部,设置在所述键盘底架上,将所述多个旋转轴部以能够在上下方向上转动的方式分别支撑。

附图说明

附图与说明书一体并构成说明书的一部分,用于说明本发明的优选实施方式,与上述的一般描述和以下将做出的优选实施方式的具体描述一起,解释本发明的宗旨。

图1是表示将本发明适用于键盘乐器的实施方式1的俯视图。

图2是表示图1所示的键盘乐器的键盘部的主要部分的放大俯视图。

图3是图2所示的键盘部的A-A箭头的放大剖视图。

图4A是表示图2所示的键盘部中的第一白键单元的放大俯视图。

图4B是图4A的B-B箭头的放大剖视图。

图5A是图2所示的键盘部中的第二白键单元的放大俯视图。

图5B是图5A的C-C箭头的放大剖视图。

图6A是图2所示的键盘部中的黑键单元的放大俯视图。

图6B是图6A的D-D箭头的放大剖视图。

图7是表示图3所示的键盘部的键盘底架的放大剖视图。

图8是表示图7所示的键盘底架的放大俯视图。

图9是图8所示的键盘底架的E-E箭头的放大剖视图。

图10是在将本发明适用于键盘乐器的实施方式2中表示键盘部的主要部分的放大俯视图。

图11是图10所示的键盘部的F-F箭头的放大剖视图。

图12是表示图11所示的键盘部的键盘底架的放大剖视图。

图13是表示图12所示的键盘底架的放大俯视图。

图14是图13所示的键盘底架的G-G箭头的放大剖视图。

具体实施方式

(实施方式1)

以下,参照图1~图9说明将本发明适用于键盘乐器的实施方式1。

如图1所示,该键盘乐器具备乐器主体1。该乐器主体1形成为左右方向细长的箱形状。如图1~图3所示,该乐器主体1具备上部壳体2、以及兼做下壳体的键盘底架3。在该乐器主体1内以向上方露出的状态设有键盘部4。

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