[发明专利]光扫描单元以及使用其的电子照相成像装置有效

专利信息
申请号: 201110340760.3 申请日: 2011-11-02
公开(公告)号: CN102466881A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 朴基成 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02B26/12 分类号: G02B26/12;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 扫描 单元 以及 使用 电子 照相 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种光扫描单元,包括:

光源单元,发射多个光束;

光偏转器,将从所述光源单元发出的所述多个光束偏转在主扫描方向上;以及

入射光学系统,使得从所述光源单元发出的所述多个光束入射在所述光偏转器的不同反射面上,

其中所述入射光学系统包括至少一个入射光路径改变构件,该至少一个入射光路径改变构件折转所述多个光束在所述光源单元与所述光偏转器之间的光路。

2.根据权利要求1所述的光扫描单元,其中:

所述光源单元包括多个光源以分别发射多个光束;以及

所述多个光源安装在单个电路基板上。

3.根据权利要求1所述的光扫描单元,其中所述光偏转器包括至少五个反射面。

4.根据权利要求3所述的光扫描单元,其中:

所述光偏转器包括N个反射面;

主扫描入射角是入射到所述光偏转器上的光束与被所述光偏转器偏转并朝向扫描面的中心行进的光束之间的角度;以及

所述入射光学系统使得从所述光源单元发出的多个光束以360°/N的主扫描入射角入射在所述光偏转器上。

5.根据权利要求4所述的光扫描单元,其中所述光偏转器在关于所述光偏转器的相对两侧对称地接收入射在第一反射面上的光束和入射在第二反射面上的光束。

6.根据权利要求4所述的光扫描单元,还包括:

同步检测传感器,检测被所述光偏转器偏转的所述多个光束中的任意光束。

7.根据权利要求6所述的光扫描单元,其中所述同步检测传感器检测被所述光偏转器偏转的所述多个光束中的任意光束的主扫描线的第一扫描端和第二扫描端之中的第一扫描端。

8.根据权利要求7所述的光扫描单元,还包括:

同步光路改变构件,设置在所述光偏转器与所述同步检测传感器之间,并折转光束的光路以检测同步。

9.根据权利要求8所述的光扫描单元,其中所述同步检测传感器与所述多个光源一起安装在单个电路基板上。

10.根据权利要求8所述的光扫描单元,其中所述同步光路改变构件与入射光路径改变构件在入射光学系统中形成为一体,该入射光路径改变构件折转所述光束的路径以检测同步。

11.根据权利要求6所述的光扫描单元,还包括:

同步检测透镜,设置在所述光检测器与所述同步检测传感器之间。

12.根据权利要求1所述的光扫描单元,其中:

所述光源单元包括分别发射第一至第四光束的第一至第四光源;以及

所述入射光学系统使从所述第一和第二光源发出的所述第一和第二光束入射在所述光偏转器的第一反射面上,并使从所述第三和第四光源发出的所述第三和第四光束入射在所述光偏转器的第二反射面上。

13.根据权利要求12所述的光扫描单元,其中:

入射在所述光偏转器的反射面上的光束在辅助扫描方向上的入射角被称为辅助扫描入射角;以及

所述入射光学系统使从所述第一和第二光源发出的所述第一和第二光束以不同的辅助扫描入射角入射在所述光偏转器的所述第一反射面上,并使从所述第三和第三光源发出的所述第三和第四光束以不同的辅助扫描入射角入射在所述光偏转器的所述第二反射面上。

14.根据权利要求13所述的光扫描单元,其中所述第一至第四光束的辅助扫描入射角在从0到10度的范围内。

15.一种成像装置,包括:

根据权利要求1至14中任一项所述的光扫描单元;

显影单元,设置在从所述光扫描单元发出的所述多个光束的每一个的成像点处,并包括多个光电导体和显影辊,各个静电潜像根据所述多个光束形成在该多个光电导体上,该显影辊使形成在所述多个光电导体上的所述静电潜像显影;以及

转印单元,被所述显影单元显影的图像被转印到该转印单元上,

其中所述入射光学系统包括至少一个入射光路径改变构件,该至少一个入射光路径改变构件折转所述多个光束在所述光源与所述光偏转器之间的光路。

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