[发明专利]人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置无效
申请号: | 201110347796.4 | 申请日: | 2011-11-07 |
公开(公告)号: | CN103095979A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 李运锦 | 申请(专利权)人: | 华晶科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N5/232 | 分类号: | H04N5/232;H04N5/243;G06T5/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 处理 方法 及其 撷取 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种影像处理方法及其影像撷取装置,尤其涉及一种处理人脸过曝现象的影像处理方法及其影像撷取装置。
背景技术
随着科技的发展,相机、摄影机等各类影像撷取装置在生活中已扮演着不可或缺的角色,无论是日常生活或是工作环境都是影像撷取装置发挥其功能的舞台。由于市面上充斥着各式各样的影像撷取装置,因此影像撷取装置的功能多寡便成为消费者在购买时的考量之一。
目前在相机领域里,一般在灯光复杂的环境中,对人像或人脸拍摄照片时,由于光线漫射的影响,极易造成脸部局部区域过度曝光,这种现象极易发生于一般油质的皮肤或是高度化妆的皮肤。举例来说,在太阳底下脸部的局部油面现象或高度化妆的区域反射性比较大,进而造成相片中相对应区域产生过曝;或者于较暗的环境中使用闪光灯时,若打闪的亮度或角度不适当,亦容易造成局部区域过曝而降低影像品质。
目前解决上述相片局部区域过度曝光的问题,大部分都是利用外在的辅助工具来控制光线的强弱与方向以降低人脸局部过曝现象,亦有些是于拍摄完毕之后,利用个人电脑或笔记型电脑等搭配一般影像处理软件以人工方式对脸部影像做局部处理。然而,上述的解决方法皆须仰赖专业人士的处理或后制,对于一般消费者而言,实为不便。故,于一般相机中直接实现改善人脸局部过曝现象的功能实为消费者的需求,然而目前在相机领域里并未见到具有此种功能的相机。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种人脸过曝的影像处理方法及其影像撷取装置,能直接于影像撷取装置中实现改善人脸局部过曝现象的功能。
本发明提出一种人脸过曝的影像处理方法,适用于影像撷取装置,包括下列步骤。首先,撷取一待处理影像,并针对此待处理影像进行人脸检测程序,藉以定义出包括一或多个人脸的一人脸区域。接着,分析人脸区域内的影像亮暗分布,并判断人脸区域内是否存在过曝区域。若是,对待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出第一曝光影像与第二曝光影像。利用在第一曝光影像中与过曝区域相对应的区域与第二曝光影像进行影像混合,藉以产生一处理后影像。
在本发明的一实施例中,上述分析人脸区域内的影像亮暗分布,并判断人脸区域内是否存在过曝区域的步骤包括分析并统计人脸区域内的每一像素点的亮暗分布,进而产生一亮度分布图(luminancehistogram)。并且判断用以表达此亮度分布图的位元数是否超过一预设位元数。若表达此亮度分布图的位元数超过预设位元数,则利用待处理影像定义出过曝区域。
在本发明的一实施例中,上述对待处理影像进行数字影像处理藉以模拟出第一曝光影像与第二曝光影像的步骤包括分析待处理影像的亮度分布并撷取较高位元部分的影像作为第一曝光影像。并且分析待处理影像的亮度分布以撷取较低位元部分的影像作为第二曝光影像。
本发明另提出一种人脸过曝的影像处理方法,适用于一影像撷取装置,其包括下列步骤。首先,设定第一曝光模式藉以撷取一第一待处理影像,并设定第二曝光模式藉以撷取一第二待处理影像,其中,第一曝光模式的曝光时间小于第二曝光模式的曝光时间。接着,对第二待处理影像进行人脸检测程序,藉以定义出包括一或多个人脸的一人脸区域。然后,分析人脸区域内的影像亮暗分布,并判断人脸区域内是否存在过曝区域。若是,利用在第一待处理影像中与过曝区域相对应的区域与第二待处理影像进行影像混合,藉以产生处理后影像。
在本发明的一实施例中,上述在撷取第一待处理影像与第二待处理影像之后,还包括对第一待处理影像与第二待处理影像进行几何校正,藉以产生第一校正后影像与第二校正后影像,进而对第二校正后影像进行人脸检测程序。
在本发明的一实施例中,上述分析人脸区域内的影像亮暗分布,并判断人脸区域内是否存在过曝区域的步骤包括分析并统计人脸区域内的每一像素点的亮暗分布,进而产生一亮度分布图。并且判断用以表达此亮度分布图的位元数是否超过一预设位元数。若判断表达此亮度分布图的位元数超过此预设位元数,则利用第二待处理影像定义出过曝区域。
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