[发明专利]氢气产生装置

权利要求书

1.一种氢气产生装置，包括：

一反应槽，具有一容纳空间，其中该容纳空间用以容纳一固态反应物；

一第一盖体，覆盖该容纳空间，其中该第一盖体具有多个第一开孔；

一第二盖体，设于该第一盖体上且具有一第二开孔，其中该第一盖体与该第二盖体之间形成一腔室；以及

一第一导管，穿过该第一盖体及该第二盖体而延伸至该容纳空间内，其中该些第一开孔围绕该第一导管，一液态反应物用以透过该第一导管到达该容纳空间内并与该固态反应物反应产生一氢气，该氢气用以透过该些第一开孔到达该腔室，并透过该第二开孔被排出。

2.如权利要求1所述的氢气产生装置，其中该第一盖体具有多个挡墙，该些挡墙延伸至该腔室内。

3.如权利要求2所述的氢气产生装置，其中该些第一开孔环绕该些挡墙。

4.如权利要求2所述的氢气产生装置，其中该些挡墙为多个同心圆结构且环绕该第二开孔。

5.如权利要求2所述的氢气产生装置，其中各该挡墙具有多个凹口，该氢气用以透过该些凹口越过各该挡墙。

6.如权利要求1所述的氢气产生装置，其中还包括一过滤元件，其中该过滤元件配置于该腔室内，该氢气通过该过滤元件而到达该第二开孔。

7.如权利要求1所述的氢气产生装置，其中该第一导管透过该第二开孔穿过该第二盖体。

8.如权利要求1所述的氢气产生装置，其中该第二盖体还具有一第三开孔，该第一导管透过该第三开孔穿过该第二盖体。

9.如权利要求1所述的氢气产生装置，其中还包括一中空管体，固定于该反应槽而位于该容纳空间内，其中该第一导管伸入该中空管体，该中空管体的管壁具有多个孔洞，该些孔洞分别朝向该容纳空间的不同区域，该液态反应物用以透过该些孔洞到达该容纳空间。

10.如权利要求1所述的氢气产生装置，其中还包括一水槽，用以容纳该液态反应物，其中该第一导管连通该水槽，该液态反应物用以透过该第一导管从该水槽被导引至该反应槽。

11.如权利要求10所述的氢气产生装置，其中还包括一第二导管，连通该第二开孔并延伸至该水槽内，其中该氢气用以透过该第二导管从该反应槽到达该水槽内，该水槽内的该液态反应物用以对该氢气进行降温。

12.如权利要求11所述的氢气产生装置，其中该第二导管的一出口具有一网状元件，该氢气通过该网状元件而到达该水槽内。

13.如权利要求11所述的氢气产生装置，其中一水气用以透过该第二导管从该腔室到达该水槽内并溶于该液态反应物。

14.如权利要求11所述的氢气产生装置，其中该水槽具有一排气口，该水槽内的该氢气用以透过该排气口被导引至一燃料电池堆。

15.如权利要求14所述的氢气产生装置，其中该水槽内具有多个隔板而形成一弯折流道，该氢气通过该弯折流道而到达该排气口。

16.如权利要求14所述的氢气产生装置，其中该水槽在该排气口具有一透气不透液膜。