[发明专利]一种用于搪瓷卷板连续生产的中间层及制备方法有效
申请号: | 201110349872.5 | 申请日: | 2011-11-08 |
公开(公告)号: | CN102529204A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 路兴浩;罗东岳;余庚 | 申请(专利权)人: | 武汉中冶斯瑞普科技有限公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B15/18;C23C18/36 |
代理公司: | 武汉帅丞知识产权代理有限公司 42220 | 代理人: | 朱必武;周瑾 |
地址: | 430073 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 搪瓷 连续生产 中间层 制备 方法 | ||
1.一种用于搪瓷卷板连续生产的中间层,是运用化学镀方法在经过预处理的搪瓷基板上获得的非晶态Ni-P-B中间层,其特征在于,所述非晶态Ni-P-B中间层,镀层各组分质量百分比为88%≤Ni≤92%、7%≤P≤11.8%、0.2%≤B≤2%,镀层厚度为300 ~500mg/m2。
2.根据权利要求1所述的用于搪瓷卷板连续生产的中间层,其特征在于,所述化学镀方法获得Ni-P-B中间层,化学镀Ni-P-B工艺配方为:硫酸镍21~33 g/L;次亚磷酸钠22~36 g/L;二甲氨基硼烷1~3 g/L;苹果酸8~15 g/L;乳酸18~28 g/L;醋酸钠12~24 g/L;氢氧化钠12~20 g/L;硼砂1~2.5 g/L;硫脲0.001~0.005 g/L;苯磺酸钠0.5~2 g/L;温度75~85℃;pH值5~7。
3.根据权利要求1所述的用于搪瓷卷板连续生产的中间层,其特征在于,对所述搪瓷基板的预处理包括:搪瓷用冷轧钢板或者覆铝锌钢板经碱洗除油、抛光处理、酸洗活化、预电镀镍处理。
4.根据权利要求3所述的用于搪瓷卷板连续生产的中间层,其特征在于,所述抛光处理经砂带抛光机抛光处理后表面粗糙度达Ra=0.1~0.3μm。
5.一种用于搪瓷卷板连续生产的中间层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)对搪瓷基板进行预处理:搪瓷用冷轧钢板或者覆铝锌钢板经碱洗除油、抛光处理、酸洗活化、预电镀镍处理;
2)运用化学镀的方法在经过预处理的搪瓷基板上获得非晶态Ni-P-B中间层;所述化学镀Ni-P-B工艺配方为:硫酸镍21~33 g/L;次亚磷酸钠22~36 g/L;二甲氨基硼烷1~3 g/L;苹果酸8~15 g/L;乳酸18~28 g/L;醋酸钠12~24 g/L;氢氧化钠12~20 g/L;硼砂1~2.5 g/L;硫脲0.001~0.005 g/L;苯磺酸钠0.5~2 g/L;温度75~85℃;pH值5~7。
6.根据权利要求5所述的用于搪瓷卷板连续生产的中间层的制备方法,其特征在于,所述抛光处理经砂带抛光机抛光处理后表面粗糙度达Ra=0.1~0.3μm。
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