[发明专利]一种盘旋式金属间电容结构及其布局无效
申请号: | 201110349901.8 | 申请日: | 2011-11-08 |
公开(公告)号: | CN102446896A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 张海芳;娄晓琪 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 盘旋 金属 电容 结构 及其 布局 | ||
1.一种盘旋式金属电容结构,其特征在于,包括至少一个金属层,金属层内包括第一电极和第二电极,第一电极与第二电极形状相同并均呈平面螺旋结构;所述第一电极与第二电极中心对称排布;所述第一电极和第二电极之间填充有绝缘介电材料。
2.根据权利要求1所述的盘旋式金属电容结构,其特征在于,所述第一电极与第二电极均为圆弧形、或多边形平面螺旋结构。
3.根据权利要求2所述的盘旋式金属电容结构,其特征在于,所述第一电极与第二电极均为四边形、五边形或六边形平面螺旋结构。
4.根据权利要求1所述的盘旋式金属电容结构,其特征在于,包括至少一个奇数金属层和至少一个偶数金属层。
5.根据权利要求4所述的盘旋式金属电容结构,其特征在于,奇数金属层内的第一电极旋与相邻偶数金属层内的第二电极对齐。
6.根据权利要求4所述的盘旋式金属电容结构,其特征在于,相邻的金属层之间填充有绝缘介电材料层。
7.一种盘旋式金属电容结构,其特征在于,包括至少一个奇数金属层和至少一个偶数金属层,所述奇数金属层内包括第一电极,所述偶数金属层内包括第二电极;所述第一电极和第二电极均为平面螺旋结构,电极螺旋线之间的空隙中填充有绝缘材料;
所述第一电极绕其中心轴旋转180度后与相邻金属层中的第二电极对齐;相邻金属层之间填充有绝缘介电材料层。
8.一种盘旋式金属电容结构,其特征在于,包括至少一个奇数金属层和至少一个偶数金属层,所述奇数金属层内包括第一电极,所述偶数金属层内包括第一电极;各金属层内所述第一电极均为平面螺旋结构,电极螺旋线之间的空隙中填充有绝缘材料;
各金属层中的第一电极对齐;相邻金属层之间填充有绝缘介电材料层。
9.一种盘旋式金属电容结构,其特征在于,包括至少一个金属层,金属层内包括第一电极,第一电极呈平面螺旋结构;所述平面螺旋结构空隙之间填充有绝缘介电材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110349901.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有多视场的极宽带紧凑光学系统
- 下一篇:发动机转矩控制装置