[发明专利]一种抑制4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶对甲苯磺酸盐晶体生长过程中出现杂晶的方法有效
申请号: | 201110350938.2 | 申请日: | 2011-11-08 |
公开(公告)号: | CN102560678A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 罗军华;孙志华;陈天亮;洪茂椿 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | C30B29/54 | 分类号: | C30B29/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350002 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抑制 甲基 氨基 苯乙烯 吡啶 甲苯 磺酸盐 晶体生长 过程 出现 方法 | ||
1.一种4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶对甲基苯磺酸盐晶体的生长方法,其特征在于:在晶体的生长过程中,采用活性炭颗粒作为吸附剂。
2.一种权利要求1所述的4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶对甲基苯磺酸盐晶体的生长方法,其特征在于:在晶体的生长过程中,采用比表面积为200~1000 m2/g的颗粒状或柱状活性炭作为吸附剂。
3.一种权利要求1所述的4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶对甲基苯磺酸盐晶体的生长方法,其特征在于:在晶体的生长过程中,采用平均孔径约为200nm、平均比表面积为750 m2/g的柱状活性炭作为吸附剂。
4.一种权利要求1所述的4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶对甲基苯磺酸盐晶体的生长方法,其特征在于:在晶体的生长过程中,采用平均比表面积为1000 m2/g的颗粒状或柱状活性炭作为吸附剂。
5.应用于权利要求1-4其中任一所述生长方法的设备,其特征在于:容器底部采用聚四氟乙烯薄板固定活性炭颗粒,载晶器斜板上存在凹槽。
6.如权利要求1-4所述其中任一所述生长方法的用途,其特征在于:可以增加DAST晶体生长溶液的亚稳相区间,减少微晶的聚集趋势,提高溶液的稳定性,用于获得高质量的DAST晶体。
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