[发明专利]液晶显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板，包括：

形成在上基板上的柱状衬垫料；

形成在与所述上基板相对的下基板上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管与多条栅线和多条数据线连接；

形成在由所述栅线和所述数据线的交叉所提供的像素区域的像素电极，所述像素电极与所述薄膜晶体管连接；和

与所述像素区域相配地形成在所述栅线上的突出图案部，

其中所述突出图案部包括突出部和突出部支撑图案，所述突出部形成为与所述柱状衬垫料接触，以减小所述柱状衬垫料与所述下基板之间的摩擦面积，所述突出部支撑图案防止所述衬垫料在发生物理碰撞或振动时陷入。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中所述突出图案部与所述像素区域相配地形成在所述栅线上，或者与每两个像素区域相配地形成在所述栅线上，或者与所述液晶显示面板的四个角和中心相配地形成在所述栅线上。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中所述突出图案部是在形成所述薄膜晶体管的源电极、漏电极和半导体图案时用半色调掩模或狭缝掩模来形成的。

4.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其中所述突出部与所述薄膜晶体管的源电极和漏电极由相同的材料同时形成在相同的层上。

5.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其中所述突出部支撑图案与所述薄膜晶体管的半导体图案由相同的材料同时形成在相同的层上。

6.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其中所述突出部支撑图案包括：

用于支撑所述突出部的芯部；和

围绕所述芯部形成的尾部。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其中所述突出部支撑图案的所述尾部具有1.8μm～5μm的长度。

8.一种制造液晶显示面板的方法，包括下述步骤：

在上基板上形成柱状衬垫料；

在与所述上基板相对的下基板上形成栅电极图案，所述栅电极图案包括栅线和栅电极；

在上面形成有所述栅电极图案的所述下基板上沉积栅绝缘膜、半导体层和数据电极层；

在所述栅绝缘膜、所述半导体层和所述数据电极层上形成具有彼此不同厚度的第一和第二光刻胶图案；

用所述第一和第二光刻胶图案蚀刻所述半导体层和所述数据电极层，从而形成包括源电极和漏电极的数据金属图案、下层半导体图案、以及突出图案部，所述突出图案部具有突出部和突出部支撑图案，所述突出部支撑图案所形成的面积大于当发生物理碰撞或振动时所述柱状衬垫料下压在所述突出部上时的所述柱状衬垫料下压表面的面积；和

将所述上基板与所述下基板粘结在一起，以使所述柱状衬垫料与所述突出部接触。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述突出部支撑图案包括：

用于支撑所述突出部的芯部；和

围绕所述芯部形成的尾部。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述突出部支撑图案的所述尾部具有1.8μm～5μm的长度，以在发生物理碰撞或振动时防止所述柱状衬垫料陷入。

11.根据权利要求8所述的方法，其中所述突出图案部与所述像素区域相配地形成在所述栅线上，或者与每两个像素区域相配地形成在所述栅线上，或者与所述液晶显示面板的四个角和中心相配地形成在所述栅线上。

12.根据权利要求8所述的方法，其中在所述栅绝缘膜、所述半导体层和所述数据电极层上形成具有彼此不同厚度的第一和第二光刻胶图案的步骤包括下述步骤：

在所述栅绝缘膜、所述半导体层和所述数据电极层上涂布光刻胶；

提供半色调掩模或狭缝掩模，所述掩模包括：

在将要形成所述半导体图案、所述数据金属图案和所述突出部的区域处的用于遮蔽UV射线的遮光区域、在将要形成突出部支撑图案和所述薄膜晶体管的沟道的区域处具有半透射层以控制光透射率的半透射区域、以及完全透射UV射线的透射区域；以及

用所述半色调掩模或所述狭缝掩模形成第一和第二光刻胶图案。