[发明专利]一种光阻涂布的方法及装置有效
| 申请号： | 201110351490.6 | 申请日： | 2011-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103094093A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 戴新华;彭超群;方表峰;杜兆董 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/312 | 分类号： | H01L21/312;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光阻涂布 方法 装置 | ||
1.一种光阻涂布的方法，其特征在于，包括：
将晶片放置在工作台上；
对所述晶片进行至少两次的光阻涂布，其中，每次光阻涂布包括：旋转所述工作台，并使所述工作台上方的光阻输配喷嘴喷出光阻。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述晶片进行两次的光阻涂布时，所述工作台在第一次光阻涂布中的旋转速度大于或等于在第二次光阻涂布中的旋转速度。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述工作台在第一次光阻涂布中的旋转速度为2000转/分-3000转/分。
4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述工作台在第二次光阻涂布中的旋转速度为1500转/分-2000转/分。
5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一次光阻涂布的作业时间与所述第二次光阻涂布的作业时间相等。
6.一种光阻涂布的装置，其特征在于，包括：
工作台，用于放置晶片，并在控制单元的控制下旋转；
光阻输配喷嘴，位于所述工作台上方，用于在控制单元的控制下向所述晶片喷出光阻；
控制单元，用于控制所述工作台以及光阻输配喷嘴对所述晶片进行至少两次的光阻涂布，其中，每次光阻涂布包括：旋转所述工作台，并使所述光阻输配喷嘴喷出光阻。
7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，
所述工作台在第一次光阻涂布中的旋转速度大于或等于在第二次光阻涂布中的旋转速度。
8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，
所述工作台在第一次光阻涂布中的旋转速度为2000转/分-3000转/分。
9.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述工作台在第二次光阻涂布中的旋转速度为1500转/分-2000转/分。
10.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第一次光阻涂布的作业时间与所述第二次光阻涂布的作业时间相等。
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