[发明专利]纳米孔石墨烯及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种孔结构的石墨烯，其特征在于：所述孔结构的石墨烯中，所述孔为纳米孔。

2.根据权利要求1所述的石墨烯，其特征在于：所述纳米孔的孔径为20-100nm，优选40-70nm。

3.根据权利要求1或2所述的石墨烯，其特征在于：所述孔结构的石墨烯中，片层间距为优选羧基的摩尔百分含量为7-10％，优选8-9％；导电率为185-435S/cm，优选355-435S/cm。

4.一种制备权利要求1-3任一所述石墨烯的方法，包括如下步骤：将化学转化的石墨烯水溶液于硝酸水溶液中进行回流反应，反应完毕后水洗至中性，干燥得到权利要求1-3任一所述石墨烯。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于：所述化学转化的石墨烯水溶液的浓度为0.1-1.0mg/mL，优选0.25mg/mL；所述硝酸水溶液的浓度为1-16mol/L，优选8mol/L。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于：所述回流反应步骤中，温度为80-105℃，优选100℃，时间为8-24小时，优选12小时。

7.一种由权利要求1-3任一所述石墨烯构成的石墨烯膜。

8.根据权利要求7所述的石墨烯膜，其特征在于：所述石墨烯膜的厚度为5-15μm，优选5-10μm；所述石墨烯膜的透光率为46-92％，优选80-92％；。

9.权利要求1-3任一所述石墨烯在制备石墨烯纳米复合材料、透明导电电极或能量存储器件中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于：所述能量存储器件选自超级电容器、锂离子电池和太阳能电池中的至少一种。