[发明专利]光拾取器透镜有效
申请号: | 201110353287.2 | 申请日: | 2007-11-06 |
公开(公告)号: | CN102411940A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 伊藤充 | 申请(专利权)人: | 日立麦克赛尔株式会社 |
主分类号: | G11B7/1372 | 分类号: | G11B7/1372 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强;李家浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 拾取 透镜 | ||
1.一种光拾取器透镜,其特征在于,
上述透镜为单透镜,其具有来自激光源的光束不通过衍射环带元件而入射的第一面,以及,位于上述第一面相反一侧且位于与由光盘基板及光盘内光透过层构成的光盘相面对的一侧的第二面;并且,用于专门将波长为410nm以下且来自上述激光源的光束聚光在上述光盘上,其数值孔径NA的数值为0.84以上,有效直径D为1.8≤D≤2.45mm;
对于上述第二面,在从光轴朝向透镜外径,做成半径h1、半径h2、半径h3的场合,其中h1<h2<h3,在将半径h1、半径h2、半径h3上的各凹陷量设为sag1、sag2、sag3且将各凹陷的变化量设为Δsag1、Δsag2、Δsag3时,上述第二面的面形状为朝向所述光盘侧凸起的非球面形状,且存在满足0>Δsag1>Δsag2以及Δsag2<Δsag3的h1、h2及h3,
并且,在波长为405nm时的折射率n为1.51≤n≤1.57。
2.一种光拾取器透镜,其特征在于,
上述透镜为单透镜,其具有来自激光源的光束不通过衍射环带元件而入射、且向光源侧凸起的第一面,以及,位于上述第一面相反一侧且位于与由光盘基板及光盘内光透过层构成的光盘相面对的一侧的第二面;并且,用于专门将波长为410nm以下且来自上述激光源的光束聚光在上述光盘上,其数值孔径NA的数值为0.84以上,有效直径D为1.8≤D≤2.45mm;
对于上述第二面,在从光轴朝向透镜外径,做成半径h1、半径h2、半径h3的场合,其中h1<h2<h3,在将半径h1、半径h2、半径h3上的各凹陷量设为sag1、sag2、sag3且将各凹陷的变化量设为Δsag1、Δsag2、Δsag3时,上述第二面的面形状为朝向所述光盘侧凸起的非球面形状,且存在满足0>Δsag1>Δsag2以及Δsag2<Δsag3的h1、h2及h3,
并且,在波长为405nm时的折射率n为1.51≤n≤1.5899。
3.一种光拾取器透镜,其特征在于,
上述透镜为单透镜,其具有来自激光源的光束不通过衍射环带元件而入射、且向光源侧凸起的第一面,以及,位于上述第一面相反一侧且位于与由光盘基板及光盘内光透过层构成的光盘相面对的一侧的第二面;并且,用于专门将波长为410nm以下且来自上述激光源的光束聚光在上述光盘上,其数值孔径NA的数值为0.84以上,有效直径D为1.8≤D≤2.45mm;
对于上述第二面,在从光轴朝向透镜外径,做成半径h1、半径h2、半径h3的场合,其中h1<h2<h3,在将半径h1、半径h2、半径h3上的各凹陷量设为sag1、sag2、sag3且将各凹陷的变化量设为Δsag1、Δsag2、Δsag3时,上述第二面的面形状为朝向所述光盘侧凸起的非球面形状,且存在满足0>Δsag1>Δsag2以及Δsag2<Δsag3的h1、h2及h3,
在波长为405nm时的折射率n为1.51≤n≤1.64,
并且,相对于来自上述激光源的平行光束,在距离上述光盘内的上述光盘内光透过层的表面面间隔0.0875的位置聚光。
4.一种光拾取器透镜,其特征在于,
上述透镜为单透镜,其具有来自激光源的光束不通过衍射环带元件而入射、且向光源侧凸起的第一面,以及,位于上述第一面相反一侧且位于与由光盘基板及光盘内光透过层构成的光盘相面对的一侧的第二面;并且,用于专门将波长为410nm以下且来自上述激光源的光束聚光在上述光盘上,其数值孔径NA的数值为0.84以上,有效直径D为1.8≤D≤2.45mm;
对于上述第二面,在从光轴朝向透镜外径,做成半径h1、半径h2、半径h3的场合,其中h1<h2<h3,在将半径h1、半径h2、半径h3上的各凹陷量设为sag1、sag2、sag3且将各凹陷的变化量设为Δsag1、Δsag2、Δsag3时,上述第二面的面形状为朝向所述光盘侧凸起的非球面形状,且存在满足0>Δsag1>Δsag2以及Δsag2<Δsag3的h1、h2及h3,
色散系数vd为55.0≤vd≤62.1,
并且,相对于来自上述激光源的平行光束,在距离上述光盘内的上述光盘内光透过层的表面面间隔0.0875的位置聚光。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立麦克赛尔株式会社,未经日立麦克赛尔株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110353287.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:合成皮的制造方法
- 下一篇:一种含赤藓糖醇的双歧因子QQ糖制备方法