[发明专利]色调剂、其制造方法、盒、图像形成方法和图像形成设备有效
申请号: | 201110353753.7 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN102707594A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 滨野弘一;田口哲也;藤田麻史;镰田普;高木正博 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G9/097 | 分类号: | G03G9/097;G03G9/09;G03G9/08;G03G15/08;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 色调 制造 方法 图像 形成 设备 | ||
1.一种静电图像显影用色调剂,所述色调剂包含:
含有着色剂和粘合剂树脂的着色颗粒,和
由外部添加至所述着色颗粒的表面的两种以上无机颗粒,
其中
所述两种以上无机颗粒含有含钛颗粒和含二氧化硅颗粒,
所述着色颗粒的表面的露出率为约25%以下,并且
与所述着色颗粒接触的含钛颗粒的比例为约15个数%以下。
2.如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂,其中所述着色颗粒的表面的露出率为约16%以下。
3.如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂,其中在所述着色颗粒上所述含钛颗粒的覆盖率和所述含二氧化硅颗粒的覆盖率的总和为约150%以下。
4.如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂,其中所述着色颗粒的表面的露出率为2%以上。
5.如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂,其中所述含二氧化硅颗粒具有约5nm~约40nm的体均粒径。
6.如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂,其中所述含钛颗粒具有约8nm~约50nm的体均粒径。
7.如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂,其中,基于添加量,所述含钛颗粒与所述含二氧化硅颗粒的覆盖率之比为约1/2~约1/10。
8.一种如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂的制造方法,所述方法包括:
制备含有着色剂和粘合剂树脂的着色颗粒;
通过湿式外部添加,在水性介质中将含二氧化硅颗粒添加至所述着色颗粒,以提供具有所添加的所述含二氧化硅颗粒的着色颗粒;和
通过干式外部添加将含钛颗粒添加至具有所添加的所述含二氧化硅颗粒的着色颗粒。
9.如权利要求8所述的静电图像显影用色调剂的制造方法,其中在所述含二氧化硅颗粒的添加中,所述水性介质中的所述含二氧化硅颗粒的量是使着色颗粒上的覆盖率为约90%~约150%的量。
10.如权利要求8所述的静电图像显影用色调剂的制造方法,其中在所述着色颗粒上所述含钛颗粒的覆盖率和所述含二氧化硅颗粒的覆盖率的总和为约150%以下。
11.如权利要求8所述的静电图像显影用色调剂的制造方法,其中所述着色颗粒的表面的露出率为约2%以上。
12.一种可从图像形成设备上拆卸的盒,所述盒包含容纳于其中的如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂。
13.一种图像形成方法,所述方法包括:
在图像保持部件的表面上形成静电潜像;
使用色调剂将形成在所述图像保持部件的表面上的所述静电潜像显影,以形成色调剂图像;
将所述色调剂图像转印至转印介质的表面;和
使转印至所述转印介质的表面的所述色调剂图像定影,其中
所述色调剂为如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂。
14.如权利要求13所述的图像形成方法,其中在所述着色颗粒上所述含钛颗粒的覆盖率和所述含二氧化硅颗粒的覆盖率的总和为约150%以下。
15.如权利要求13所述的图像形成方法,其中所述着色颗粒的表面的露出率为约2%以上。
16.一种图像形成设备,所述设备包含:
图像保持部件;
充电单元,所述充电单元对所述图像保持部件充电;
曝光单元,所述曝光单元曝光经充电的所述图像保持部件,以在所述图像保持部件的表面上形成静电潜像;
显影单元,所述显影单元使用色调剂将所述静电潜像显影,以形成色调剂图像;
转印单元,所述转印单元将所述色调剂图像由所述图像保持部件转印至转印介质;和
定影单元,所述定影单元使转印至所述转印介质的表面的所述色调剂图像定影,其中
所述色调剂为如权利要求1所述的静电图像显影用色调剂。
17.如权利要求16所述的图像形成设备,其中在所述着色颗粒上所述含钛颗粒的覆盖率和所述含二氧化硅颗粒的覆盖率的总和为约150%以下。
18.如权利要求16所述的图像形成设备,其中所述着色颗粒的表面的露出率为约2%以上。
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