[发明专利]一种具有热均匀性的热处理方法无效

申请号：	201110355109.3	申请日：	2011-11-10
公开（公告）号：	CN102393601A	公开（公告）日：	2012-03-28
发明（设计）人：	宋剑	申请（专利权）人：	宋剑
主分类号：	G03F7/00	分类号：	G03F7/00
代理公司：	暂无信息	代理人：	暂无信息
地址：	221000 江苏省***	国省代码：	江苏;32
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摘要：
搜索关键词：	一种具有均匀热处理方法
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【说明书】：

技术领域

本发明公开了一种具有热均匀性的热处理方法，属于热处理技术领域。

背景技术

现有热处理装置的进气排风系统常因为温度低而使蒸发物在气体排放口遇冷凝结变成液态，甚至变成固态，使得气体排放口大小改变，造成执行热处理程序时净化气流流量的不稳定，所以，该热处理装置操作一段时间就必须停机进行处理室的清洁，且净化气流流量的不稳定也将会使光阻表面的温度不均，进而导致光阻表面的酸浓度不同，使得显影处理后的光阻尺寸产生变动。

发明内容

本发明的目的是提供一种具有热均匀性的热处理方法，借由热空气流动使加热过程均匀化，且调节排气的流量，控制排出该处理室内的气体流量，形成具有热均匀性的热处理装置，用以解决上述技术中的不足。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

(1)将有待形成光阻图案的半导体基板的表面，进行一种疏水处理，增加光阻的黏着性；

(2)光阻旋转涂布至半导体基板表面，形成一光阻膜；

(3)光阻膜被预先烘烤从该处移除溶剂；

(4)冷却至室温；

(5)远紫外线辐射照射曝光；

(6)光阻膜接着受到一种曝光后烘烤处理，以促进从光阻膜消除保护基的消去反应；

(7)再次冷却至室温；

(8)以显影液显影以形成光阻图案；

(9)形成光阻图案，光阻膜受到后烘烤。