[发明专利]一类镨离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料及其用途无效
申请号: | 201110357179.2 | 申请日: | 2011-11-12 |
公开(公告)号: | CN103102881A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 熊飞兵 |
主分类号: | C09K11/78 | 分类号: | C09K11/78 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361024 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一类 离子 掺杂 复合 钼钨酸盐 真空 紫外 激发 材料 及其 用途 | ||
1.一类Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,材料类型为荧光粉末材料,其特征在于:在真空紫外激发下,基质晶体吸收真空紫外光子能量,然后将能量传递给掺杂Pr3+离子,激发态的掺杂Pr3+离子可以实现下转换发光,同时通过Pr3+离子与钨酸根间的能量传递,可将一个波长位于近紫外的光子转换可见光子,从而实现Pr3+离子的两个光子发射波长集中在490~650nm可见光区的下转换发光,其总的荧光量子效率可以达到200%,大大提高材料的吸收效率、能量转换效率和发光效率。
2.一类如权利要求1所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为CsRWO4MoO4(R=Al、La、Sc、Gd、Y、Bi等),镨离子可以部分替代式中的Sc离子,材料类型为荧光粉末材料。
3.一类如权利要求1所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为LiRWO4MoO4(R=Al、La、Sc、Gd、Y、Bi等),镨离子可以部分替代式中的La离子,材料类型为荧光粉末材料。
4.一类如权利要求1所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为NaRWO4MoO4(R=Al、La、Sc、Gd、Y、Bi等),镨离子可以部分替代式中的R离子,材料类型为荧光粉末材料。
5.一类如权利要求1所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为AR(WO4)2-x(MoO4)x(A=Li、Na、K、Rb、Cs等;R=Al、La、Sc、Gd、Y、Bi等;x=0~2),镨离子可以部分替代式中的R离子,材料类型为荧光粉末材料。
6.一类如权利要求2所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为CsScWO4MoO4,镨离子可以部分替代式中的钪离子,材料类型为荧光粉末材料,该晶体属单斜晶系,晶胞参数为:a=5.73?,b=7.90?,c=5.46?,α=γ=90o,β=115.4o,Z=4,Pr3+浓度不同,晶体结构参数可能有所变化。
7.一类如权利要求3所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为LiLaWO4MoO4,镨离子可以部分替代式中的镧离子,材料类型为荧光粉末材料,该晶体属四方晶系,空间群为I41/a,晶胞参数为:a=b=5.28?,c=11.46?,α=β=γ=90o,Z=4,Pr3+浓度不同,晶体结构参数可能有所变。
8.一类如权利要求3所述的Pr3+离子掺杂复合钼钨酸盐真空紫外激发材料,其特征在于:该类材料的分子式为LiScWO4MoO4,镨离子可以部分替代式中的钪离子,材料类型为荧光粉末材料,该晶体属单斜晶系,空间群为C2/c,晶胞参数为:a=9.26,b=11.38?,c=4.91?,α=γ=90o,β=90.3o,Z=4,Pr3+浓度不同,晶体结构参数可能有所变化。
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