[发明专利]一种带有单加热自转盘的磁控溅射系统无效
| 申请号： | 201110358042.9 | 申请日： | 2011-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN103103484A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 冯彬;郭东民;佟辉;周景玉;刘丽华;张雪;戚晖 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 白振宇 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 带有 加热 转盘 磁控溅射 系统 | ||
1.一种带有单加热自转盘的磁控溅射系统，其特征在于：包括磁控室(1)、单加热自转盘(3)、第一电机(4)、手动基片挡板组件(5)、磁控靶(6)、机台架(7)及真空抽气系统，其中磁控室(1)安装在机台架(7)上、与位于机台架(7)内的真空抽气系统相连，在磁控室(1)内均布有多个安装在磁控室(1)的下法兰(15)上的磁控靶(6)；所述单加热自转盘(3)转动安装在磁控室(1)的上盖(2)上，单加热自转盘(3)的一端载有基片、插入磁控室(1)内，位于各磁控靶(6)的上方，另一端位于上盖(2)的上方；所述上盖(2)上安装有第一电机(4)，该第一电机(4)驱动单加热自转盘(3)旋转；所述单加热自转盘(3)所载基片的下方设有安装在上盖(2)上的手动基片挡板组件(5)。
2.按权利要求1所述带有单加热自转盘的磁控溅射系统，其特征在于：所述机台架(7)内安装有电动提升机构(14)，该电动提升机构(14)的输出端由机台架(7)穿出、与磁控室(1)的上盖(2)相连接，带动上盖(2)及上盖(2)上的单加热自转盘(3)、第一电机(4)和手动基片挡板组件(5)升降。
3.按权利要求1或2所述带有单加热自转盘的磁控溅射系统，其特征在于：所述单加热自转盘(3)具有一个加热工位、处于单加热自转盘(3)的中间，各磁控靶(6)位于该单加热自转盘(3)加热工位的周围。
4.按权利要求1或2所述带有单加热自转盘的磁控溅射系统，其特征在于：所述磁控靶(6)倾斜于基片设置，每个磁控靶(6)上方均设有一个磁控靶挡板(8)，该磁控靶挡板(8)与安装在机台架(7)内部的第二电机相连，通过第二电机驱动开关磁控靶挡板(8)。
5.按权利要求1或2所述带有单加热自转盘的磁控溅射系统，其特征在于：所述手动基片挡板组件(5)包括转轴及挡板，其中转轴可转动地安装在上盖(2)上，转轴的下端连接有挡板。
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