[发明专利]真空处理装置的组装方法以及真空处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及对具有石英制的反应容器的真空处理装置进行组装的方法以及真空处理装置。

背景技术

作为以批量式对半导体晶圆(以下称为“晶圆”)进行成膜处理等真空处理的装置，公知有一种立式热处理装置，其具有用于将多张晶圆呈搁板状载置的晶圆舟皿、供该晶圆舟皿自下方侧气密地插入的由石英构成的反应管(反应容器)。在反应管的例如侧面，通过熔接将用于对该反应管内的气氛进行真空排气的由石英构成的排气部的一端侧设在反应管上，该排气部的另一端侧与朝向真空泵延伸的金属制的排气管连接。排气部侧的端部被固定在例如用于构成装置的外壳体的壳体上，使得排气管即使在反应管的内部的气氛被设定为真空气氛的情况下也不会被该气氛拉过去(不移动)。另外，反应管在比晶圆载置于晶圆舟皿的位置靠下方侧的位置处利用作为环状的安装构件的下凸缘(bottom flange)自下表面侧以保持为水平的状态固定于底板，使得反应管的下端周缘部与设在晶圆舟皿的下端部的盖体的上表面在整个周向上气密地接触。因而，在该装置中，排气部的靠排气管侧的端部被固定的位置与反应管的下端部被固定的位置相互的位置关系大致确定。

将反应管安装到该装置中时或者更换反应管时，在使下凸缘下降到下方侧的状态下将反应管固定于该下凸缘，接着，使下凸缘上升以使排气部的上述另一端侧面向排气管的开口端，并且，将下凸缘固定于底板。接着，例如作业者使用配管用凸缘构件将排气部和排气管气密地连接。这样，反应管和排气管被气密地连接。

然而，石英制品的加工性比例如金属材料的加工性差，大多加工精度较低。因此，有时排气部的长度尺寸、自反应管延伸的排气部的朝向等对于每个反应管而存在差异。因而，由于如上所述那样，反应管的下端部(下凸缘)和排气管的相互的位置关系在装置内被确定，因此，将排气部与排气管连接时，有时处于对该排气部施加了过分的力的状态，因此，反应管有可能在例如排气部与反应管之间的熔接部分破损。

因此，对于上述的排气管，划分为排气部侧的第1配管和真空泵侧的第2配管，供用于将第1配管与壳体固定的构件、例如螺栓插入的螺栓孔设有一定程度的余量。另外，用弯曲自如及伸缩自如的波纹管将这些第1配管和第2配管气密地连接，使得能够按照排气部的姿势来对第1配管的固定位置进行调整。但是，因为这些第1配管、排气部的固定作业是在上方位置(作业者的头上)进行的，所以由于作业者的熟练度的不同，有可能以排气部相对于排气管发生位置错位的状态被固定、同样呈对排气部施加了过分的力的状态。此时，即使排气管的相对于排气部的位置错位量非常小，有时也因为反应管和排气部的熔接部分自上述固定位置互相偏离，所以排气部随着接近熔接部分而发生较大的位置错位，从而对该熔接部分施加较大的力。另外，反应管、排气部的尺寸误差非常大时，有时即使设有上述的余量也不能吸收该尺寸误差(对排气部施加过分的力)。

另一方面，通过在例如第1配管和排气部之间设置上述的波纹管而构成为波纹管能够按照排气部的位置来移动时，使反应管内为真空气氛时该波纹管会收缩，因此，排气部有可能被拉向排气管侧而排气部自反应管脱离(破损)。

在以往的关联技术中，虽然记载有立式热处理装置，但是没有研究上述的问题。

发明内容

本发明是鉴于这样的情况而做成的，其目的在于提供一种在具有形成有排气部的石英制的反应容器的真空处理装置中能够抑制反应容器的破损的真空处理装置的组装方法以及真空处理装置。

本发明提供一种真空处理装置的组装方法，其用于对真空处理装置进行，该真空处理装置是在石英制的反应容器内在减压气氛下对基板进行真空处理的真空处理装置，该石英制的反应容器的一端侧开口为基板的输入口、并且、在该一端侧形成有排气部，其特征在于，该真空处理装置的组装方法包括以下工序：工序(a)，将安装构件安装在上述反应容器的一端侧；工序(b)，其将排气管的至少凸缘部连接并固定于上述排气部；工序(c)，其在上述工序(a)及上述工序(b)之后，利用固定构件对连接并固定于上述排气部的排气管的至少包含凸缘部在内的部分与上述安装构件进行固定；工序(d)，其在将安装构件安装于反应容器的上述工序(a)之后，将上述安装构件固定于支承部；工序(e)，其在结束了上述工序(a)～(d)的工序之后，将上述排气管固定在排气管固定部件，该排气管固定部件位于比对上述安装构件进行固定的固定位置靠下游侧的位置，该排气管固定部件由与上述安装构件不同的构件构成。